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1. (WO2002086420) APPAREIL, SYSTEME ET PROCEDE DE CALIBRAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/086420    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/012531
Date de publication : 31.10.2002 Date de dépôt international : 19.04.2002
CIB :
G01B 11/25 (2006.01), G01B 21/04 (2006.01)
Déposants : DIMENSIONAL PHOTONICS, INC. [US/US]; 4 Preston Court Bedford, MA 01730 (US)
Inventeurs : SHIRLEY, Lyle, G.; (US).
SWANSON, Gary, J.; (US).
DERR, Nathan, D.; (US)
Mandataire : TURANO, Thomas, A.; Testa, Hurwitz & Thibeault, LLP High Street Tower 125 High Street Boston, MA 02110 (US)
Données relatives à la priorité :
60/285,457 19.04.2001 US
60/327,977 09.10.2001 US
Titre (EN) CALIBRATION APPARATUS, SYSTEM AND METHOD
(FR) APPAREIL, SYSTEME ET PROCEDE DE CALIBRAGE
Abrégé : front page image
(EN)An aspect of the invention relates to a calibration standard for a three-dimensional measurament system and various calibration methods and techniques. The calibration standard typically includes a calibration standard and a plurality of optical targets. The optical targets being are affixed to the calibration standard surface and difine a three-dimensional distribution of optical reference points. The optical targets can be serve as active, passive calibration targets, or combinations of both. In one embodiment, the optical targets include an otpical source and a diffusing target, and each of the optical sources are configured to illuminate the respective diffusing target. The optical targets can be removably affixed to the calibration standard surface.
(FR)La présente invention concerne une solution-étalon pour un système de mesure tridimensionnel et divers procédés et techniques d'étalonnage. La solution-étalon comprend, généralement une surface de solution-étalon et plusieurs cibles optiques. Les cibles optiques sont fixées à la surface de la solution-étalon et définissent une répartition tridimensionnelle des points de référence optiques. Les cibles optiques peuvent être des cibles d'étalonnage actives, passives ou des combinaisons de ces dernières. Selon un mode de réalisation, les cibles optiques comprennent une source optique et une cible de diffusion, et toutes les sources optiques sont configurées pour éclairer la cible de diffusion correspondante. Les cibles optiques peuvent être fixées, de manière amovible, à la surface de la solution-étalon.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)