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1. (WO2002086200) PROCEDE DE PRODUCTION DE MOTIFS ATOMIQUES ET MOLECULAIRES SUR DES SURFACES ET DE DISPOSITIFS NANOSTRUCTURES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/086200    N° de la demande internationale :    PCT/IB2001/000668
Date de publication : 31.10.2002 Date de dépôt international : 23.04.2001
CIB :
B82B 3/00 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), C30B 23/02 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITÄT BASEL [CH/CH]; Petersgraben 35, CH-4003 Basel (CH) (Tous Sauf US).
BRUNNER, Michael [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
BERNER, Simon [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
JUNG, Thomas, A. [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
SUZUKI, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : BRUNNER, Michael; (CH).
BERNER, Simon; (CH).
JUNG, Thomas, A.; (CH).
SUZUKI, Hitoshi; (JP)
Mandataire : E. BLUM & CO.; Vorderberg 11, CH-8044 Zürich (CH)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PRODUCTION METHOD FOR ATOMIC AND MOLECULAR PATTERNS ON SURFACES AND NANOSTRUCTURED DEVICES
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE MOTIFS ATOMIQUES ET MOLECULAIRES SUR DES SURFACES ET DE DISPOSITIFS NANOSTRUCTURES
Abrégé : front page image
(EN)A method for vapour-depositing atomic and/or molecular patterns (15) on a substrate (4) and nanoscale-devices produced by the method are disclosed. The method comprises the steps of choosing a substrate (4), at least two material components (3a; 25, 26) and their mixing ratio to form a specified self-organized atomic and/or molecular pattern (15) of the components (3a; 25, 26) by vapour-depositing them on the substrate (4). Embodiments refer e. g. to: intermingling the components (3a; 25, 26) on a truely atomic or molecular scale; forming periodic patterns (15); using an unstructured atomically planar or a pre-patterned deposition surface (4a); and building defects, dopants and/or functional molecules (18) into the specified pattern (15). The method is more flexible, simpler, more stable and less error-prone than conventional molecular pattern formation. Producible nanostructures (16a-16c, 22-23) comprise wires (16a) e. g. of C60-molecules (25), grids (16b), networks (16b), storage elements (22, 23) or diffraction gratings (16c).
(FR)Cette invention se rapporte à un procédé servant à déposer en phase vapeur des motifs atomiques et/ou moléculaires (15) sur un substrat (4), ainsi qu'à des dispositifs à l'échelle nanométrique produits par ce procédé. Ce procédé consiste à choisir un substrat (4), au moins deux matériaux constituants (3a; 25, 26) et leur rapport de mélange, pour former à partir desdits constituants (3a; 25, 26) un motif atomique et/ou moléculaire spécifié (15) ayant sa propre organisation, par dépôt en phase vapeur desdits constituants sur ledit substrat (4). Dans des modes de réalisation de cette invention, on décrit par exemple: l'entremêlement des constituants (3a; 25, 26) sur une échelle réellement atomique ou moléculaire; la formation de motifs périodiques (15); l'utilisation d'une surface de dépôt à formation préalable de motifs ou atomiquement plane non structurée (4a); et la constitution de défauts, de dopants et/ou de molécules fonctionnelles (18) dans le motif spécifié (15). Ce procédé est plus souple, plus simple, plus stable et moins sujet aux erreurs que la formation de motifs moléculaires traditionnelle. Les nanostructures (16a-16c, 22-23) pouvant ainsi être produites comprennent des fils (16a), par exemple de molécules C¿60? (25), des grilles (16b), des réseaux (16b), des supports de stockage (22, 23) ou des réseaux de diffraction (16c).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)