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1. (WO2002086184) CIBLE DE PULVERISATION D'ALLIAGE DE MANGANESE ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/086184    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/001341
Date de publication : 31.10.2002 Date de dépôt international : 18.02.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    02.07.2002    
CIB :
C22F 1/16 (2006.01), C22F 1/18 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
Déposants : NIKKO MATERIALS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 10-1, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 105-8407 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAMURA, Yuichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKAMURA, Yuichiro; (JP)
Mandataire : OGOSHI, Isamu; OGOSHI International Patent Office, Toranomon 9 Mori Building 3F, 2-2, Atago 1-chome, Minato-ku, Tokyo 105-0002 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-116323 16.04.2001 JP
2001-167040 01.06.2001 JP
Titre (EN) MANGANESE ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) CIBLE DE PULVERISATION D'ALLIAGE DE MANGANESE ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE
Abrégé : front page image
(EN)A manganese alloy sputtering target characterized in that oxygen is 1000 ppm or less, sulfur is 200 ppm or less and a forged texture is provided, and a method for producing a forged manganese alloy target stably by eliminating the drawbacks of manganese alloy that it is susceptible to cracking and has a low transverse rupture strength. A manganese alloy sputtering target which can form a thin film exhibiting high characteristics and high corrosion resistance while suppressing generation of nodules or particles is obtained.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation d'alliage de manganèse, cette cible se caractérisant en ce que l'oxygène contenu représente au plus 1000 ppm, le soufre contenu représente au plus 200 ppm, et en ce qu'elle présente une texture forgée. L'invention concerne également un procédé de production stable de cette cible d'alliage de manganèse forgée, ce procédé consistant à éliminer les pièces de rapport de l'alliage de manganèse qui sont susceptibles de fissuration et qui présentent une faible résistance à la rupture transversale. On obtient ainsi une cible de pulvérisation d'alliage de manganèse pouvant former une couche mince qui présente d'excellentes caractéristiques et une résistance élevée à la corrosion, et qui permet également d'éviter la création de nodules ou de particules.
États désignés : CN, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)