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1. (WO2002086045) COMPOSITIONS DE NETTOYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/086045    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/011739
Date de publication : 31.10.2002 Date de dépôt international : 12.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.10.2002    
CIB :
C11D 3/00 (2006.01), C11D 3/02 (2006.01), C11D 3/20 (2006.01), C11D 3/24 (2006.01), C11D 3/30 (2006.01), C11D 11/00 (2006.01), C23G 1/20 (2006.01)
Déposants : ESC, INC. [US/US]; 115 Research Drive, Bethlehem, PA 18015 (US)
Inventeurs : NAGHSHINEH, Shahriar; (US).
HASHEMI, Yassaman; (US)
Mandataire : SIMMONS, James, C.; Ratner & Prestia, 301 One Westlakes (Berwyn), P.O. Box 980, Valley Forge, PA 19482-0980 (US)
Données relatives à la priorité :
09/839,475 19.04.2001 US
Titre (EN) CLEANING COMPOSITIONS
(FR) COMPOSITIONS DE NETTOYAGE
Abrégé : front page image
(EN)An aqueous cleaning composition comprising an alkanolamine, a tetraalkylammonium hydroxide, nonmetallic fluoride salt, a corrosion inhibitor, ascorbic acid or its derivatives alone or in combination, balance water. Such cleaning compositions are effective to remove residues from plasma process generated organic, metal-organic materials, inorganic salts, oxides, hydroxides or complexes in combination with or exclusive of organic photoresist films at low temperatures with little corrosion of copper and attack of dielectric substrates.
(FR)L'invention concerne une composition de nettoyage aqueuse comprenant une alcanolamine, un hydroxyde de tétra-alkylammonium, du sel de fluorure non métallique, un inhibiteur de corrosion, de l'acide ascorbique ou des dérivés de celui-ci, seuls ou combinés, complétés par de l'eau. Ces compositions de nettoyage sont efficaces pour l'élimination des résidus sur des matériaux organiques, des matériaux organo-métalliques, des sels inorganiques, des oxydes, des hydroxydes ou des complexes associés ou non à des couches de photorésine organique, générés par un traitement au plasma, et permettent un nettoyage à basse température, avec une corrosion du cuivre et une attaque des matériaux diélectriques réduites.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)