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1. (WO2002085634) EMULSION ET LIQUIDE DE REVETEMENT ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT UTILISANT CETTE EMULSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/085634    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/003838
Date de publication : 31.10.2002 Date de dépôt international : 17.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.05.2002    
CIB :
B41M 5/00 (2006.01), B41M 5/36 (2006.01), B41M 5/52 (2006.01), C08F 20/56 (2006.01), C08F 220/56 (2006.01), C08L 101/12 (2006.01)
Déposants : ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 2-6, Dojimahama 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-8205 (JP) (Tous Sauf US).
FUNAKOSHI, Shinji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKANOHASHI, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUNAKOSHI, Shinji; (JP).
TAKANOHASHI, Hiroaki; (JP)
Mandataire : ASAMURA, Kiyoshi; Room 331, New Ohtemachi Bldg., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-119342 18.04.2001 JP
2001-119761 18.04.2001 JP
2001-127543 25.04.2001 JP
Titre (EN) EMULSION AND COATING LIQUID AND RECORDING MEDIUM USING THE SAME
(FR) EMULSION ET LIQUIDE DE REVETEMENT ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT UTILISANT CETTE EMULSION
Abrégé : front page image
(EN)A polymer emulsion for use in producing a recording medium, characterized in that it comprises a polymer (A) which exhibits hydrophilicity in a temperature region not higher than a specific temperature (sensitive temperature point) and hydrophobicity in a temperature region higher than the specific temperature.
(FR)La présente invention concerne une émulsion polymère destinée à produire un support d'enregistrement, comprenant un polymère (A) qui présente une hydrophilie dans une zone de température ne dépassant pas une température spécifique ( point de température critique) et une hydrophobie dans une zone de température dépassant cette température spécifique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)