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1. (WO2002085537) SUPPORT REVETU PAR CENTRIFUGATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/085537    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/012132
Date de publication : 31.10.2002 Date de dépôt international : 18.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.11.2002    
CIB :
B05D 1/00 (2006.01), C03C 17/32 (2006.01)
Déposants : GENERAL ELECTRIC COMPANY [US/US]; 1 River Road, Schenectady, NY 12345 (US)
Inventeurs : REITZ, John, B.; (US).
CHENG, Minquan; (US).
DIETZ, Albert, G., III; (US).
FEIST, Thomas, P.; (US).
GALLUCCI, Robert, R.; (US).
GORCZYCA, Thomas, B.; (US)
Mandataire : CURBELO, Pamela; Cantor Colburn LLP, 55 Griffin Road South, Bloomfield, CT 06002 (US)
Données relatives à la priorité :
60/285,088 19.04.2001 US
60/285,022 19.04.2001 US
60/285,014 19.04.2001 US
Titre (EN) SPIN COATING PROCESS
(FR) SUPPORT REVETU PAR CENTRIFUGATION
Abrégé : front page image
(EN)In one embodiment, a spin coating process comprises: dispensing a solution of a solution solvent and about 3 to about 30 wt% thermoplastic polymer, base upon the total weight of the solution, wherein the solution solvent has a boiling point at atmospheric pressure of about 110 °C to about 250 °C, a polarity index of greater than or equal to about 4.0, a pH of about 5.5 to about 9; spinning the substrate; and removing the solution solvent to produce a coated substrate comprising a coating having less than or equal to 10 asperities over the entire surface of the coated substrate.
(FR)L'invention concerne un mode de réalisation d'un procédé de revêtement par centrifugation consistant: à distribuer une solution d'un solvant pour solution et environ 3 à environ 30 % en poids d'un polymère thermoplastique, en fonction du poids total de la solution, ce solvant pour solution présentant un point d'ébullition dans des conditions de pression atmosphérique compris entre environ 110 °C et environ 250 °C, un indice de polarité supérieur ou égal à environ 4,0, un pH compris entre environ 5,5 et 9; à faire tourner le substrat; et à retirer le solvant pour solution, de sorte à produire un substrat revêtu comportant un revêtement qui présente au maximum 10 aspérités sur l'intégralité de sa surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)