WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002085080) PROCEDE ET DISPOSITIF DE GENERATION DE LUMIERE DANS L'EXTREME ULTRAVIOLET NOTAMMENT POUR LA LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/085080    N° de la demande internationale :    PCT/FR2002/001306
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 16.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.10.2002    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31/33, rue de la Fédération, F-75752 Paris 15ème (FR) (Tous Sauf US).
SCHMIDT, Martin [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
SUBLEMONTIER, Olivier [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
CECCOTTI, Tiberio [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
SEGERS, Marc [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : SCHMIDT, Martin; (FR).
SUBLEMONTIER, Olivier; (FR).
CECCOTTI, Tiberio; (FR).
SEGERS, Marc; (FR)
Mandataire : LEHU, Jean; c/o Brevatome, 3, rue du Docteur Lancereaux, F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
01/05241 18.04.2001 FR
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN PARTICULAR FOR LITHOGRAPHY
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE GENERATION DE LUMIERE DANS L'EXTREME ULTRAVIOLET NOTAMMENT POUR LA LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a method which consists in causing a laser beam (24) to interact with a dense mist (20) of micro-droplets of a liquefied rare gas. In particular liquid xenon (6) is used, the latter being produced by liquefying a gaseous xenon (10) whereby the liquid xenon is pressurised to a pressure of 5x10?5¿ Pa to 50x10?5¿ Pa, and said liquid xenon is maintained at a temperature between -70 °C and -20 °C, said pressurised liquid xenon is injected into a nozzle (4) whereof the minimum internal diameter ranges between 60 $g(m)m and 600 $g(m)m, said nozzle emerging into a zone where the pressure is not less than 10?-1¿ Pa.
(FR)Selon l'invention, on fait interagir un faisceau laser (24) et un brouillard dense (20) de micro-gouttelettes d'un gaz rare liquéfié. On utilise en particulier le xénon liquide (6), on produit ce dernier par liquéfaction de xénon gazeux (10) avec lequel on pressurise le xénon liquide à une pression de 5x10?5¿ Pa à 50x10?5¿ Pa, et l'on maintient ce xénon liquide à une température de -70°C à -20°C, on injecte le xénon liquide pressurisé dans une buse (4) dont le diamètre intérieur minimal va de 60 $g(m)m à 600 $g(m)m, cette buse débouchant dans une zone où la pression est égale ou inférieure à 10?-1¿ Pa.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)