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1. (WO2002084726) DISPOSITIF A ULTRAVIOLET POUR LE TRAITEMENT DES SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/084726    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/002326
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 13.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    31.07.2002    
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/48 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
SHAO, Shou-Qian [CN/US]; (US) (US Seulement).
LI, Yicheng [CN/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHAO, Shou-Qian; (US).
LI, Yicheng; (JP)
Mandataire : SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE, 7-2, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-108358 06.04.2001 JP
Titre (EN) ULTRAVIOLET RAY ASSISTED PROCESSING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
(FR) DISPOSITIF A ULTRAVIOLET POUR LE TRAITEMENT DES SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)An ultraviolet ray assisted processing device (10) for semiconductor processing, comprising a window (20) allowing the transmission of ultraviolet ray disposed in a wall for specifying a processing chamber (12) so as to oppose to a loading table (11), a light source (15) for emitting ultraviolet ray disposed on the outside of the processing chamber (12) so as to oppose to the window (20), and a processing gas feeding system for feeding processing gas into the processing chamber (12) having a head space (21) to pass the processing gas formed inside the window (20) and a plurality of discharge ports (22) for discharging the processing gas.
(FR)La présente invention se rapporte à un dispositif à ultraviolet (10) pour le traitement des semi-conducteurs. Ce dispositif comprend une fenêtre (20) permettant la transmission d'un rayonnement ultraviolet et disposée dans une paroi pour indiquer une chambre de traitement (12) de manière à faire face à une table de chargement (11), une source de lumière (15) conçue pour émettre un rayonnement ultraviolet et disposée à l'extérieur de la chambre de traitement (12) de manière à faire face à la fenêtre, et un système d'alimentation en gaz de traitement conçu pour alimenter la chambre de traitement (12) en gaz de traitement et possédant d'une part un espace de tête (21) permettant le passage du gaz de traitement formé à l'intérieur de la fenêtre (20) et d'autre part plusieurs orifices d'évacuation (22) permettant l'évacuation du gaz de traitement.
États désignés : CN, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)