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1. (WO2002084720) DISPOSITIF D'EXPOSITION, SYSTEME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCEDE PERMETTANT DE PRODUIRE CE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/084720    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/003318
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 03.04.2002
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
NISHI, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NISHI, Kenji; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; Paseo Building 5th floor, 4-20, Haramachida 5-chome, Machida-shi, Tokyo 194-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-108334 06.04.2001 JP
Titre (EN) EXPOSURE DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, SYSTEME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCEDE PERMETTANT DE PRODUIRE CE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A first main body unit (ST1) supporting a substrate stage (WST1) is supported at four points by an antivibration unit (16A, 16B, etc.) and a second main body unit (ST2) holding a projection optical system (PL) is supported at three points on the first main body unit by a second antivibration unit (24A, 24B, etc.) Therefore, the first main body unit and substrate stage are supported stably and with high rigidity, and unlike, for example, the case where the first main unit is supported at three points, maintenance for the stage portion from the device back side (- x side) becomes possible. Further, since antivibration units are prepared in two serial stages, the effect of suppressing the background vibration from the floor surface is high. Therefore, this ensures improved yield of devices by precision exposure, improved device operating rate due to the reduction of maintenance time, and hence improved productivity for devices that are final products.
(FR)Le dispositif décrit comprend un corps formé d'une première unité (ST1) principale qui supporte un socle (WT1) de substrat, cette première unité étant montée en quatre points sur une unité (16A, 16b etc.) anti-vibratoire, et d'une seconde unité (ST2) principale qui supporte un système (PL) optique de projection, et qui est montée en trois points sur la première unité principale par l'intermédiaire d'une seconde unité (24A, 24B etc.) anti-vibratoire. La première unité principale et le socle de substrat sont ainsi supportés de manière stable, avec une rigidité élevée, et permet, à la différence des systèmes dans lesquels la première unité de corps principale est supportée en trois points, d'assurer une maintenance de la partie socle à partir de la face arrière (côté x-) du dispositif. En outre, comme les unités anti-vibratoires sont formées sous forme de deux étages en série, l'effet de suppression des vibrations de fond provenant de la surface du sol est élevé. Ce dispositif permet ainsi de produire des dispositifs par une exposition haute précision avec un rendement accru, présente une vitesse de production améliorée grâce à la réduction du temps de maintenance, et permet ainsi d'améliorer la productivité lors de la préparation des dispositifs constituant les produits finis.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)