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1. (WO2002084711) SYSTEME ET PROCEDE DE CHAUFFAGE PERMETTANT DE CHAUFFER UN REACTEUR ATMOSPHERIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/084711    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/004060
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 11.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.11.2002    
CIB :
C23C 16/46 (2006.01), C30B 25/10 (2006.01), C30B 33/00 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : INFINEON TECHNOLOGIES SC300 GMBH & CO. KG [DE/DE]; Königsbrücker Str. 180, 01099 Dresden (DE) (Tous Sauf US).
ASML US INC. [US/US]; 8555 S. River Parkway, Tempe, AZ 85284 (US) (Tous Sauf US).
BERNHARDT, Henry [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SEIDEMANN, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
STADTMUELLER, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BERNHARDT, Henry; (DE).
SEIDEMANN, Thomas; (DE).
STADTMUELLER, Michael; (DE)
Mandataire : EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Ridlerstr. 55, 80339 München (DE)
Données relatives à la priorité :
01109164.2 12.04.2001 EP
Titre (EN) HEATING SYSTEM AND METHOD FOR HEATING AN ATMOSPHERIC REACTOR
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DE CHAUFFAGE PERMETTANT DE CHAUFFER UN REACTEUR ATMOSPHERIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a heating system for heating a deposition/oxidation reactor in which a plurality of wafers is held perpendicularly to the reactant gas flowing direction which is parallel to the longitudinal axis of the reactor, so as to enable a deposition or oxidation reaction. The heating system is adapted to change the reactor temperature during the process. Further, the invention provides a method for heating a reactor in which a plurality of wafers is held perpendicularly to the reactant gas flowing direction, so as to enable a reaction, wherein the reactor temperature is changed during the process. Prefereably, each of a plurality of reactor zones, into which the reactor is divided in a direction parallel to the reactant gas flowing direction, is heated at a different temperature profile.
(FR)La présente invention concerne un système de chauffage destiné à chauffer un réacteur de dépôt/oxydation dans lequel une pluralité de tranches sont retenues perpendiculairement au sens d'écoulement du gaz réactant, ce sens étant parallèle à l'axe longitudinal du réacteur, d'où la réalisation d'une réaction de dépôt ou d'oxydation. Ce système de chauffage est conçu pour modifier la température du réacteur en cours de processus. L'invention concerne en outre un procédé de chauffage d'un réacteur dans lequel une pluralité de tranches sont retenues perpendiculairement au sens d'écoulement du gaz réactant de façon à permettre la réalisation d'une réaction, la température du réacteur étant modifiée en cours de processus. Ledit réacteur est divisé en une pluralité de zones dans un sens parallèle au sens d'écoulement du gaz réactant. De préférence, chacune de ces zones est chauffée selon un profil de température différent.
États désignés : CN, JP, KR, SG, US.
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)