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1. (WO2002084658) MATRICE DESTINEE A UN DISQUE OPTIQUE, PROCEDE DE FABRICATION DE DISQUE OPTIQUE ET DISQUE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/084658    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/003093
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 28.03.2002
CIB :
G11B 7/09 (2006.01), G11B 7/24 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01)
Déposants : SONY CORPORATION [JP/JP]; 7-35, Kitashinagawa 6-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 141-0001 (JP) (Tous Sauf US).
NAKANO, Jun [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AKIYAMA, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MASUHARA, Shin [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKANO, Jun; (JP).
AKIYAMA, Yuji; (JP).
MASUHARA, Shin; (JP)
Mandataire : KOIKE, Akira; No.11 Mori Bldg., 6-4, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 105-0001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-109162 06.04.2001 JP
Titre (EN) STAMPER FOR OPTICAL DISK, METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL DISK, AND OPTICAL DISK
(FR) MATRICE DESTINEE A UN DISQUE OPTIQUE, PROCEDE DE FABRICATION DE DISQUE OPTIQUE ET DISQUE OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A stamper for optical disk and a method of manufacturing an optical disk by using the stamper; the method, comprising the steps of coating a substrate (2) with a photo resistor, exposing for development and transferring the photo resistor to form a disk master having irregular patterns formed on one face thereof, etching one face of the disk master (20) to reduce the width of the protruded parts thereof forming the irregular patterns, transferring the irregular patterns of the disk master (20) with the narrow protruded parts to form the stamper (30), and transferring the irregular patterns provided on the stamper (30) to form specified patterns on the substrate of the optical disk.
(FR)L'invention concerne une matrice destinée à un disque optique et un procédé de fabrication d'un disque optique au moyen de cette matrice. Ce procédé consiste à revêtir un substrat (2) au moyen d'un dispositif photorésistant, à l'exposer pour développement et à transférer le dispositif photorésistant afin de former un disque matrice possédant des motifs irréguliers formés sur une de ses faces, à graver une face du disque matrice (20) afin de réduire la largeur des parties en saillie de celles-ci formant des motifs irréguliers, à transférer les motifs irréguliers du disque matrice (20) avec les parties étroites en saillie afin de former la matrice (30), et à transférer les motifs irréguliers disposés sur la matrice (30) afin de former des motifs spécifiques sur le substrat du disque optique.
États désignés : CN, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)