WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002084402) PROCEDE DE PRODUCTION DE RESINES FILMOGENES POUR COMPOSITIONS DE PHOTORESINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/084402    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/002997
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 19.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    02.11.2002    
CIB :
B01J 20/28 (2006.01), B01J 47/00 (2006.01), B01J 47/12 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : CLARIANT INTERNATIONAL LTD [CH/CH]; Rothausstrasse 61, CH-4132 Muttenz 1 (CH) (JP only).
CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED [--/--]; Wickhams Cay, P.O. Box 662, Road Town, Tortola (VG) (AT, BE, CH, CN, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, KR, LU, MC, NL, PT, SE, SG, TR only)
Inventeurs : RAHMAN, M., Dalil; (US).
MCKENZIE, Douglas; (US).
KUDO, Takanori; (US).
PADMANABAN, Munirathna; (US)
Mandataire : HÜTTER, Klaus; Clariant Service GmbH, Patente, Marken, Lizenzen, Am Unisys-Park 1, 65843 Sulzbach (DE)
Données relatives à la priorité :
09/833,226 11.04.2001 US
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING FILM FORMING RESINS FOR PHOTORESIST COMPOSITIONS
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE RESINES FILMOGENES POUR COMPOSITIONS DE PHOTORESINE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method for producing a film forming resin suitable for use in a photoresist composition, involving the following steps: (a) providing a solution of a film forming resin in a solvent, the film forming resin made by polymerizing at least one monomer containing a cycloolefin or an acid labile acrylate or a methacrylate; (b) providing at least one of the following two filter sheets: (i) a filter sheet containing a self-supporting fibrous matrix having immobilized therein a particulate filter aid (which has preferably been acid-washed) and particulate ion exchange resin particles having an average particle size of from about 2 to about 10 microns, where the particulate filter aid and ion exchange resin particulates are distributed substantially uniformly throughout a cross-section of said matrix; and/or (ii) a filter sheet containing a self-supporting matrix of fibers (preferably cellulose) having immobilized therein particulate filter aid and binder resin, the filter sheet preferably not containing any ion exchange resin embedded therein, and having an average pore size of 0.05 to 0.5 µm; (c) rinsing the filter sheet of step (b) with the solvent of step (a); and (d) passing the solution of the film forming resin through the rinsed filter sheet of step (c). The present invention also provides a method for producing a phtoresist composition by providing an admixture of: (1) a film forming resin prepared by the foregoing method; (2) a photosensitive component in an amount sufficient to photosensitize a photoresist composition; and optionally (3) an additional suitable photoresist solvent. The present invention also provides a method for producing a microelectronic device by forming an image on a substrate, by (a) providing the photoresist composition prepared by the foregoing method; (b) thereafter, coating a suitable substrate with the photoresist composition from step (a); (c) thereafter, heat treating the coated substrate until substantially all of the photoresist solvent is removed; and (d) imagewise exposing the photoresist composition and removing the imagewise exposed areas of the photoresist composition with a suitable developer.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'une résine filmogène adaptée à une utilisation dans une composition de photorésine. Ce procédé consiste (a) préparer une solution d'une résine filmogène dans un solvant, cette résine filmogène étant produite par polymérisation d'au moins un monomère contenant une cyclo-oléfine ou un acrylate ou méthacrylate labile acide, et (b) à obtenir l'une au moins des deux feuilles de filtrage suivantes: (i) une feuille de filtrage contenant une matrice fibreuse autoportante comprenant, immobilisés dans cette matrice, un accessoire de filtre à particules (de préférence lavé à l'acide) et des particules de résine échangeuse d'ions présentant une dimension des particules moyenne comprise entre environ 2 et environ 10 microns, l'accessoire de filtre à particules et les particules de résine échangeuse d'ions étant distribués de manière sensiblement uniforme dans une section transversale de cette matrice, et/ou (ii) une feuille de filtrage contenant une matrice autoportante de fibres (de préférence de cellulose) comprenant, immobilisés dans cette matrice, un accessoire de filtre à particules et une résine liante, la feuille de filtrage ne contenant de préférence pas de résine échangeuse d'ions, et présentant une dimension des pores moyenne comprise entre 0,05 et 0,5 $g(m)m. Ce procédé consiste également (c) à rincer la feuille de filtrage de l'étape (b) avec le solvant de l'étape (a), et (d) à faire passer la solution de la résine filmogène à travers la feuille de filtrage rincée de l'étape (c). La présente invention concerne également un procédé de production d'une composition de photorésine par préparation d'un mélange (1) d'une résine filmogène préparée selon le procédé susmentionné, (2) d'un composant photosensible en proportion suffisante pour photosensibiliser une composition de photorésine, et éventuellement (3) d'un solvant de photorésine approprié additionnel. La présente invention concerne en outre un procédé de production d'un dispositif micro-électronique par formation d'une image sur un substrat. Ce procédé consiste (a) à obtenir la composition de photorésine préparée selon le procédé susmentionné, (b) à revêtir un substrat approprié avec la composition de photorésine issue de l'étape (a), (c) à traiter par voie thermique le substrat ainsi revêtu jusqu'à ce que la quasi-totalité du solvant de photorésine soit éliminée, puis (d) à soumettre la composition de photorésine à une exposition image et à éliminer les zones de cette composition de photorésine soumises à une exposition image au moyen d'un révélateur approprié.
États désignés : CN, JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)