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PATENTSCOPE

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1. (WO2002084340) MICROLENTILLE POUR GRAVURE PAR PROJECTION ET SON PROCEDE DE PREPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2002/084340 N° de la demande internationale : PCT/US2002/011623
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 10.04.2002
CIB :
G02B 3/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE[US/US]; Holyoke Center Suite 727 1350 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02138, US
Inventeurs : WU, Ming-Hsien; US
WHITESIDES, George, M.; US
PAUL, Kateri, E.; US
Mandataire : POMIANEK, Michael, J.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C. 600 Atlantic Avenue Boston, MA 02210, US
Données relatives à la priorité :
60/283,10210.04.2001US
Titre (EN) MICROLENS FOR PROJECTION LITHOGRAPHY AND METHOD OF PREPARATION THEREOF
(FR) MICROLENTILLE POUR GRAVURE PAR PROJECTION ET SON PROCEDE DE PREPARATION
Abrégé : front page image
(EN) Methods and systems for effecting responses on surfaces utilizing microlens arrays including microoptical components embedded or supported by support element and positioned from the surface at a distance essentially equal to the image distance of the microoptical component with spacer elements are disclosed. Microlens arrays can be used to manipulate incident energy or radiation having a distribution in characteristic property(s) defining an object pattern to form a corresponding image pattern on a substrate surface. The energy can be light having a pattern or a specific wavelength, intensity or polarization or coherence alignment. The image pattern can have features of order 100 nn in size or less produced from corresponding object patterns having features in the order millimeters. The size of the object pattern can be reduced by the microlens arrays described by a factor of 100 or more using a single step process to form the image patterns.
(FR) L'invention concerne des procédés et des systèmes destinés à induire des réponses sur des surfaces à l'aide de réseaux de microlentilles comportant des composants micro-optiques enchâssés dans un élément de support ou supportés par de dernier et espacés de sa surface d'une distance pratiquement égale à la distance image du composant micro-optique au moyen d'éléments d'espacement. Les réseaux de microlentilles peuvent servir à manipuler une radiation ou énergie incidente présentant une distribution de propriété(s) caractéristique(s) définissant un motif d'objet, afin de former un motif d'image correspondant sur la surface d'un substrat. Cette énergie peut être de la lumière présentant un motif, ou bien, une longueur d'onde, une intensité ou une polarisation spécifiques ou encore un alignement de cohérence. Le motif de l'image peut présenter des caractéristiques de taille inférieures ou environ égales à 100 nm obtenues à partir de motifs d'objets correspondants présentant des caractéristiques de taille de l'ordre du millimètre. La taille du motif de l'objet peut être réduite par les réseaux de microlentilles selon la présente invention d'un facteur égal ou supérieur à 100 à l'aide d'un processus de formation de motifs d'image à étape unique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)