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1. (WO2002083976) APPAREIL ET PRODEDE DE PULVERISATION CATHODIQUE EPITAXIALE A TAUX DE DEPOT ELEVE DE COUCHES EPITAXIALES MAGNETIQUES A COMPOSES MULTIPLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/083976    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/011636
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 11.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.11.2002    
CIB :
C23C 14/35 (2006.01), C30B 23/02 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street, Wilmington, DE 19898 (US)
Inventeurs : CHISTYAKOV, Roman; (US)
Mandataire : SIEGELL, Barbara, C.; E.I. Du Pont de Nemours and Company, 1007 Market Street, Wilmington, DE 19898 (US)
Données relatives à la priorité :
60/283,514 11.04.2001 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR EPITAXIAL SPUTTER DEPOSITION OF MULTI-COMPOUND MAGNETIC EPILAYERS WITH HIGH DEPOSITION RATE
(FR) APPAREIL ET PRODEDE DE PULVERISATION CATHODIQUE EPITAXIALE A TAUX DE DEPOT ELEVE DE COUCHES EPITAXIALES MAGNETIQUES A COMPOSES MULTIPLES
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus (1) for sputtering a magnetic epitaxial film onto a substrate (11) including a sputtering chamber having a first sputtering target (2) and a second sputtering target (3). The sputtering chamber produces high-energy particles (16) that bombard the first target (2) and the second target (3). The particles from the first target (2) and the second target (3) are deposited on the substrate (11). The second target (3) is a coil shaped object constructed from highly magnetic materials positioned between the first target (2) and the substrate (11) in the chamber. The particles deposited on the substrate form a multi-compound magnetic epilayer on the substrate.
(FR)La présente invention se rapporte à un appareil (1) permettant la formation par pulvérisation cathodique d'un film épitaxial magnétique sur un substrat (11). Cet appareil comprend une chambre de pulvérisation ayant une première cible de pulvérisation (2) et une second cible de pulvérisation (3). La chambre de pulvérisation produit des particules à haute énergie (16) qui bombardent la première cible (2) et la seconde cible (3). Les particules issues de la première cible (2) et de la seconde cible (3) sont déposées sur le substrat (11). La seconde cible (3) est un objet en forme de bobine fabriqué à partir de matières fortement magnétiques positionnées entre la première cible (2) et le substrat (11) dans la chambre. Les particules déposées sur le substrat forment une couche épitaxiale magnétique à composés multiples sur le substrat.
États désignés : Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)