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1. (WO2002083808) COMPOSITION AQUEUSE DESTINEE A RENDRE UN SUBSTRAT HYDROPHOBE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/083808    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/003755
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 04.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.11.2002    
CIB :
C09K 3/18 (2006.01), C09K 17/36 (2006.01)
Déposants : VIONNET, Jacques [CH/CH]; (CH) (Tous Sauf US).
HIRSBRUNNER, Pierre [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
HORMAN, Ian [GB/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : HIRSBRUNNER, Pierre; (CH).
HORMAN, Ian; (CH)
Représentant
commun :
VIONNET, Jacques; Chemin de la Tour de Pinchat 5, CH-1234 Vessy (CH)
Données relatives à la priorité :
01109290.5 17.04.2001 EP
Titre (EN) AQUEOUS COMPOSITION FOR RENDERING A SUBSTRATE HYDROPHOBIC
(FR) COMPOSITION AQUEUSE DESTINEE A RENDRE UN SUBSTRAT HYDROPHOBE
Abrégé : front page image
(EN)A substrate treatment composition of an aqueous solution for imparting hydrophobicity to a substrate or for rendering the substrate hydrophobic. This solution preferably includes sodium and/or potassium methylsiliconate and sodium and/or potassium silicate. Also, the use of this composition for the treatment of a substrate to impart hydrophobicity or to render the substrate hydrophobic.
(FR)L'invention concerne une composition de traitement de substrat d'une solution aqueuse destinée à conférer un pouvoir hydrophobe à un substrat, ou à rendre le substrat hydrophobe. Ladite solution contient de préférence du méthyle siliconate de sodium et/ou de potassium et du silicate de sodium et/ou de potassium. L'invention concerne également l'utilisation de ladite composition dans le traitement d'un substrat afin de conférer un pouvoir hydrophobe à ce substrat ou de le rendre hydrophobe.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)