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1. (WO2002083568) PROCEDE DE FABRICATION DE CRISTAL A BASE DE FLUOROTANTALATE DE POTASSIUM A PURETE ELEVEE OU DE CRISTAL A BASE DE FLUORONOBIATE DE POTASSIUM A PURETE ELEVEE ET RECIPIENT DE RECRISTALLISATION UTILISE DANS CE PROCEDE DE FABRICATION, ET CRISTAL A BASE DE FLUOROTANTALATE DE POTASSIUM OU CRISTAL A BASE DE FLUORONIOBATE DE POTASSI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/083568    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/003286
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 02.04.2002
CIB :
C01G 33/00 (2006.01), C01G 35/00 (2006.01)
Déposants : MITSUI MINING & SMELTING CO.,LTD. [JP/JP]; 11-1, Osaki 1-chome Shinagawa-ku, Tokyo 141-8584 (JP) (Tous Sauf US).
SOHAMA, Yoshio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISAKA, Hiromichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIGASHI, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KINOSHITA, Masanori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SOHAMA, Yoshio; (JP).
ISAKA, Hiromichi; (JP).
HIGASHI, Kenji; (JP).
KINOSHITA, Masanori; (JP)
Mandataire : TANAKA, Daisuke; No.1 Misawa Bldg., 15-2, Hongo 1-chome Bunkyo-ku, Tokyo 113-0033 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-108408 06.04.2001 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING HIGH PURITY POTASSIUM FLUOROTANTALATE CRYSTAL OR HIGH PURITY POTASSIUM FLUORONIOBATE CRYSTAL AND RECRYSTALLIZATION VESSEL FOR USE IN THE METHOD FOR PRODUCTION, AND POTASSIUM FLUOROTANTALATE CRYSTAL OR HIGH PURITY POTASSIUM FLUORONIOBATE CRYSTAL PRODUCED BY THE METHOD FOR PRODUCTION
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE CRISTAL A BASE DE FLUOROTANTALATE DE POTASSIUM A PURETE ELEVEE OU DE CRISTAL A BASE DE FLUORONOBIATE DE POTASSIUM A PURETE ELEVEE ET RECIPIENT DE RECRISTALLISATION UTILISE DANS CE PROCEDE DE FABRICATION, ET CRISTAL A BASE DE FLUOROTANTALATE DE POTASSIUM OU CRISTAL A BASE DE FLUORONIOBATE DE POTASSI
Abrégé : front page image
(EN)A method for producing high purity potassium fluorotantalate crystals or high purity potassium fluoroniobate crystals, characterized in that a recrystallization process comprises the first step of cooling a saturated solution from a dissolution process having a temperature of 60 to 90 ° C to a temperature of 35 to 50 ° C at a cooling rate of T ° C/hr, and the second step of cooling the solution from the first step to a temperature of 10 to 20°C at a cooling rate of [T-18] T°C/hr to [T-1] T°C/hr. The method can be used for providing high purity potassium fluorotantalate crystals or high purity potassium fluoroniobate crystals having a good crystal particle diameter distribution which is suitable for producing tantalum or niobium particles for a high capacity capacitor without the use of a physical method for adjusting the particle size thereof.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de cristaux à base de fluorotantalate de potassium à pureté élevée ou de cristaux à base de fluoronobiate de potassium à pureté élevée, qui se caractérise par un procédé de recristallisation consistant : à refroidir une solution saturée, par un procédé de dissolution, d'une température comprise entre 60 et 90 °C à une température comprise entre 35 et 50 °C, à un taux de refroidissement de T °C/h ; à refroidir la solution susmentionnée à une température comprise entre 10 et 20 °C, à un taux de refroidissement de [T-18] T °C/h à [T-1] T °C/h. Ce procédé peut servir à fabriquer des cristaux à base fluorotantalate de potassium à pureté élevée ou des cristaux à base de fluoroniobate de potassium à pureté élevée présentant une bonne répartition de diamètre particulaire laquelle convient pour la fabrication de particules de niobium ou de tantale pour un condensateur à capacité élevée sans l'utilisation d'un procédé physique d'ajustement de la dimension granulométrique.
États désignés : CN, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)