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1. (WO2002083415) COMPOSITION DE REVETEMENT ENTIREFLETS SE PRETANT MIEUX A L'APPLICATION PAR CENTRIFUGATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/083415    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/012067
Date de publication : 24.10.2002 Date de dépôt international : 15.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.09.2002    
CIB :
C08J 3/24 (2006.01), G03F 7/09 (2006.01)
Déposants : BREWER SCIENCE, INC. [US/US]; 2401 Brewer Drive Rolla, MO 65401-9926 (US)
Inventeurs : SHAO, Xie; (US).
MEADOR, Jim, D.; (US).
BHAVE, Mandar; (US).
KRISHNAMURTHY, Vandana; (US).
NOWAK, Kelly, A.; (US).
FOWLER, Michelle; (US).
DESHPANDE, Shreeram, V.; (US)
Mandataire : BORNMAN, Tracy; Hovey Williams LLP Suite 400 2405 Grand Boulevard Kansas City, MO 64108-2519 (US)
Données relatives à la priorité :
09/836,832 17.04.2001 US
Titre (EN) ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION WITH IMPROVED SPIN BOWL COMPATIBILITY
(FR) COMPOSITION DE REVETEMENT ENTIREFLETS SE PRETANT MIEUX A L'APPLICATION PAR CENTRIFUGATION
Abrégé : front page image
(EN)Anti-reflective compositions and methods of using those compositions to form circuits are provided. The compositions comprise a polymer dissolved or dispersed in a solvent system. In one embodiment, the compositions comprise less than about 0.3% by weight of a strong acid. In another embodiment, the weight ratio of strong acid to weak acid in the composition is from about 0:100 to about 25:75. Examples of preferred weak acid compounds include phenolic compounds (e.g., Bisphenol S, Bisphenos A, $g(a)-cyano-4-hydroxycinnacmic acid), carboxylic acids (e.g., acetic acid), phosphoric acid, and cyano compounds. The polymer and other ingredients are preferably physically mixed in a solvent system. The resulting compositions are spin bowl compatible (i.e., they do not crosslink prior to the bake stages of the microlithographic processes or during storage at room temperature). Figure 1 is a scanning electron microscope (SEM) photgraph depicting an anti-reflective coating composition according to the invention deposited on silicon wafers.
(FR)La présente invention concerne des compositions antireflet et des procédés d'utilisation de ces composition pour former les circuits. Ces compositions comprennent un polymère en solution ou en dispersion dans un système de solvant. Selon un mode de réalisation, les compositions comprennent un acide fort représentant moins d'environ 0,3 % de leur masse. Selon un autre mode de réalisation le rapport massique de l'acide fort à l'acide faible dans la composition est d'environ 0:100 à environ 25:75. Les composés acides faibles sont essentiellement des composés phénoliques tels que le bisphénol A et l'acide alpha-cyano-4-hydroxycinnacmique, les acides carboxyliques tels que l'acide acétique, l'acide phosphorique, et les composés cyano. Le polymère et les autres ingrédients sont de préférence mélangés physiquement dans un système de solvants. Les compositions résultantes se prêtent à l'application par centrifugation, c'est à dire qu'elles ne se réticulent pas avant la cuisson au four du traitement microlithographique ou pendant le stockage à température ambiante. La Figure 1 est une photographique au microscope électronique à balayage représentant une composition de revêtement antireflet selon l'invention déposée sur des plaquettes de silicium.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)