WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002082564) PROCEDE DE SELECTION A PARTIR D'UN ENSEMBLE STANDARDISE DE CARACTERISTIQUES DE MASQUE DE CIRCUIT INTEGRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/082564    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/010589
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 04.04.2002
CIB :
H01L 27/118 (2006.01)
Déposants : HOEL, Jeffrey, H. [US/US]; (US)
Inventeurs :
Mandataire : TROESCH, Hans, R.; Fish & Richardson P.C. 500 Arguello Street #500 Redwood City, CA 94063 (US)
Données relatives à la priorité :
60/281,559 04.04.2001 US
10/114,054 01.04.2002 US
Titre (EN) METHOD FOR SELECTING FROM A STANDARDIZED SET OF INTEGRATED CIRCUIT MASK FEATURES
(FR) PROCEDE DE SELECTION A PARTIR D'UN ENSEMBLE STANDARDISE DE CARACTERISTIQUES DE MASQUE DE CIRCUIT INTEGRE
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatus for manufacturing a semi-custom integrated circuit by using a standard mask (figure 3, 312) and a custom mask (figure 3, 300) to select from a standardized set of features in a way that obviates the need to create a customized mask containing only the selected features (figure 3, 316), and mask sets created using such methods and apparatus. For some integrated circuit fabrication processes, the second mask has an additional purpose, so it is not created only to perform this selection function. For some fabrication processes, the selection can be achieved without use of additional processing steps.
(FR)L'invention concerne des procédés et un appareil pour fabriquer un circuit intégré semi-personnalisé au moyen d'un masque standard et d'un masque personnalisé, afin d'effectuer une sélection dans un ensemble standardisé de caractéristiques, de façon à rendre nécessaire la création d'un masque personnalisé contenant seulement les caractéristiques sélectionnées. La présente invention porte également sur des ensembles masques créés en faisant appel aux dits procédés et appareil. Dans certains modes de fabrication de circuits intégrés, le second masque a un but supplémentaire et n'est donc pas seulement réalisé pour la seule fonction de sélection. Dans d'autres modes de production, la sélection peut être effectuée sans passer par des étapes de traitement supplémentaires.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)