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1. (WO2002082529) PROCEDE DE REGLAGE DE PARAMETRES DANS UN PROCEDE DE PRODUCTION DE SEMICONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/082529    N° de la demande internationale :    PCT/KR2002/000286
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 22.02.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.11.2002    
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : JIWOO TECHNIQUES KOREA [KR/KR]; 4F, Aoneplaza Bldg., 269-6 Seohyeon-dong, Bundang-gu, Seongnam-si, Gyeonggi-do 463-825 (KR) (Tous Sauf US).
LEE, Man-Bong [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Man-Bong; (KR)
Mandataire : LEE, Kyeong-Ran; 502 BYC Bldg., 648-1 Yeoksam 1-dong, Kangnam-ku, Seoul 135-081 (KR)
Données relatives à la priorité :
2001/18474 07.04.2001 KR
Titre (EN) METHOD FOR CONTROLLING PARAMETER USING A PROCESS OF SEMICONDUCTOR PRODUCTION
(FR) PROCEDE DE REGLAGE DE PARAMETRES DANS UN PROCEDE DE PRODUCTION DE SEMICONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for controlling semiconductor processing equipments by using semiconductor process parameters. In particular, the present invention relates to the method that, in determining whether or not the semiconductor process parameters are within a proper range, respectively establishes each permitted error range of the semiconductor process parameters. This is achieved according to the time or other physical quantities and determines whether or not each semiconductor process parameter exists within each permitted error range. According to the present invention, there is a provided method for controlling semiconductor processing equipment by using at least one semiconductor process parameter that represents the state of the semiconductor processing equipment. The said method consists of establishing a permitted error range of the semiconductor process parameter according to one selected from the group consisting of a time and physical quantities, receiving a measured value of semiconductor process parameter from semiconductor processing equipment, determining whether or not the measured value of semiconductor process parameter exists within the permitted error range and controlling the semiconductor processing equipment by a predetermined control instruction corresponding to the determination.
(FR)La présente invention concerne un procédé qui permet de régler des équipements de traitement de semiconducteurs en utilisant des paramètres de traitement de semiconducteurs. En particulier, l'invention se rapporte à un procédé qui, en déterminant si les paramètres de traitement de semiconducteurs se trouvent ou non dans une plage adéquate, établit les fourchettes d'erreur respectives autorisées pour chaque paramètre de traitement de semiconducteurs. On établit cette fourchette en fonction du temps ou d'autres quantités physiques et on détermine si chaque paramètre se trouve dans chaque fourchette d'erreur autorisée. L'invention se rapporte également à un procédé qui permet de régler un équipement de traitement de semiconducteurs en utilisant au moins un paramètre de traitement de semiconducteurs représentant l'état de l'équipement de traitement de semiconducteurs. Le procédé précité consiste : à établir une fourchette d'erreur autorisée pour le paramètre de traitement de semiconducteurs qui est choisi dans un groupe composé du temps et de quantités physiques ; à recevoir une valeur mesurée du paramètre de traitement de semiconducteurs en provenance de l'équipement de traitement de semiconducteurs ; à déterminer si la valeur mesurée du paramètre de traitement de semiconducteurs se trouve dans la fourchette d'erreur autorisée ; et à régler l'équipement de traitement de semiconducteurs au moyen d'une instruction de commande prédéterminée correspondant à la détermination effectuée précédemment.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)