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1. (WO2002082507) SYSTEME ET DISPOSITIF DE MANUTENTION DE PLAQUETTES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/082507    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/010731
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 04.04.2002
CIB :
H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : WAFERMASTERS, INC. [US/US]; 246 East Gish Road San Jose, CA 95112 (US)
Inventeurs : YOO, Woo, Sik; (US)
Mandataire : LOPEZ, Theodore, P.; MCPHERSON KWOK CHEN & HEID LLP Suite 210 2402 Michelson Drive Irvine, CA 92612 (US)
Données relatives à la priorité :
09/828,659 06.04.2001 US
Titre (EN) WAFER HANDLING SYSTEM AND APPARATUS
(FR) SYSTEME ET DISPOSITIF DE MANUTENTION DE PLAQUETTES
Abrégé : front page image
(EN)An object handling system and apparatus for moving objects through a pressure sensitive system. The present invention can operate in a chamber having a pressurized environment, without adversely influencing or causing pressure changes. The present invention can be used in the transfer chamber of a semiconductor processing system, which has vertically mounted (i.e., vertically integrated) multiple reactors, load locks, and cooling stations, and which requires substantial vertical movement of the handling system. The handling system of the present invention includes a handling mechanism operatively coupled to a robotic device, which is mounted to a driver member. The driver member is movably secured at opposite ends of the chamber in which it operates. The robotic device can translate along the driver member and extend the handling mechanism in the horizontal plane to grab or pick-up an object and move the object to an alternative location.
(FR)L'invention concerne un système et un dispositif de manutention d'objets destinés au déplacement d'objets dans un système sensible à la pression. La présente invention peut être utilisée dans une enceinte renfermant un environnement pressurisé, sans affecter de manière défavorable ledit environnement ou entraîner des variations de pression. La présente invention peut être utilisée dans la chambre de transfert d'un système de traitement de semi-conducteurs comprenant plusieurs réacteurs, systèmes de calage et systèmes de refroidissement montés verticalement (c'est-à-dire intégrés verticalement), nécessitant un système de manutention à déplacement vertical important. Le système de manutention de la présente invention comprend un mécanisme de manutention couplé fonctionnellement à un dispositif robotique, monté à un élément d'entraînement. L'élément d'entraînement est fixé de façon mobile aux extrémités opposées de l'enceinte dans laquelle il opère. Le dispositif robotique permet d'effectuer un mouvement de translation le long de l'élément d'entraînement et d'allonger le mécanisme de manutention sur le plan horizontal pour saisir ou soulever un objet et l'amener vers un autre emplacement.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)