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1. (WO2002082489) FILAMENT A SOURCE IONIQUE ET PROCEDE CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/082489    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/010113
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 03.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.10.2002    
CIB :
H01J 27/04 (2006.01), H01J 27/08 (2006.01), H01J 27/14 (2006.01), H01J 37/08 (2006.01), H01L 21/265 (2006.01)
Déposants : VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road, Gloucester, MA 01930 (US)
Inventeurs : REYES, Jaime, M.; (US)
Mandataire : MCCLELLAN, William, R.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C., 600 Atlantic Avenue, Boston, MA 02210 (US)
Données relatives à la priorité :
60/281,069 03.04.2001 US
60/281,070 03.04.2001 US
Titre (EN) ION SOURCE FILAMENT
(FR) FILAMENT A SOURCE IONIQUE ET PROCEDE CORRESPONDANT
Abrégé : front page image
(EN)Ion source filaments, as well as methods and apparatus associated with the same are provided. The source filaments have a design that includes a relatively small surface area from which electrons are emitted (i.e., active portion) as compared to certain conventional source filaments. Suitable designs include filaments that have a V-shape or U-shape active portion, rather than a coiled active portion as in certain conventional source filaments. The source filaments of the present invention can increase the efficiency of ion generation and, in particular, the generation of multiply charged ionic species. The increased ion generation efficiency may enable formation of ion beams having relatively high beam currents suitable for implantation.
(FR)L'invention porte sur des filaments à source ionique ainsi que sur des procédés et des appareils correspondants. Par rapport à certains filaments conventionnels à source ionique, ces filaments comportent un motif avec une surface relativement petite à partir de laquelle des électrons sont émis (c'est-à-dire la partie active). Les motifs adéquats comprennent des filaments avec une partie active en forme de V ou en forme de U au lieu d'une partie active en spirale comme c'est le cas dans certains filaments à source ionique conventionnels. Les filaments selon l'invention peuvent augmenter l'efficacité de la génération d'ions et, plus particulièrement, la génération de plusieurs espèces ioniques chargées. L'augmentation de la génération d'ions facilite la formation de faisceaux ioniques possédant des courants de faisceau relativement élevés et adaptés à l'implantation.
États désignés : CN, JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)