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1. (WO2002082184) POLYMERES CONTENANT DU SILICIUM PROTEGES PAR ACETAL, ET COMPOSITIONS DE PHOTORESINE OBTENUES A PARTIR DE CES POLYMERES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/082184    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/010639
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 04.04.2002
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01)
Déposants : ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC. [US/US]; 501 Merritt 7 P.O. Box 4500 Norwalk, CT 06856-4500 (US)
Inventeurs : BLAKENEY, Andrew, Joseph; (US).
MALIK, Sanjay; (US).
DILOCKER, Stephanie; (US).
FERRI, John; (US).
EISELE, Jeffery; (US)
Mandataire : GREELEY, Paul, D.; Ohlandt, Greeley, Ruggiero & Perle, L.L.P. 10th floor One Landmark Square Stamford, CT 06901 (US)
Données relatives à la priorité :
60/281,295 04.04.2001 US
Titre (EN) SILICON-CONTAINING ACETAL PROTECTED POLYMERS AND PHOTORESISTS COMPOSITIONS THEREOF
(FR) POLYMERES CONTENANT DU SILICIUM PROTEGES PAR ACETAL, ET COMPOSITIONS DE PHOTORESINE OBTENUES A PARTIR DE CES POLYMERES
Abrégé : front page image
(EN)A photoresist composition comprising at least one acetal polymer having a silicon substituent; provided that the silicon substituent is not directly attached to the acetal functionality, thereby providing high resolution, improved DOF, and improved dimensional stability under metrology conditions.
(FR)L'invention concerne une composition de photorésine, qui comprend au moins un polymère acétalique présentant un substituant en silicium, à condition que le substituant en silicium ne soit pas directement lié à la fonctionnalité de l'acétal, ce qui donne une résolution élevée, un DDL amélioré, et une stabilité dimensionnelle améliorée dans des conditions de métrologie.
États désignés : JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)