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1. (WO2002082130) STRUCTURES DE RESEAUX OPTIQUES ET PROCEDE PERMETTANT DE PRODUIRE CES RESEAUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/082130    N° de la demande internationale :    PCT/GB2002/001625
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 05.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    29.10.2002    
CIB :
G02B 5/18 (2006.01)
Déposants : THERMO FAST U.K. LIMITED [GB/GB]; Saxon Way, Bar Hill, Cambridge CB3 8SL (GB) (Tous Sauf US).
LYNDIN, Nikolai, Mikhailovitch [RU/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : LYNDIN, Nikolai, Mikhailovitch; (GB)
Mandataire : JONES, Stephen, Anthony; Adamson Jones, Broadway Business Centre, 32a Stoney Street, Nottingham NG1 1LL (GB)
Données relatives à la priorité :
0108557.0 05.04.2001 GB
Titre (EN) OPTICAL GRATING STRUCTURES AND METHOD FOR THEIR MANUFACTURE
(FR) STRUCTURES DE RESEAUX OPTIQUES ET PROCEDE PERMETTANT DE PRODUIRE CES RESEAUX
Abrégé : front page image
(EN)A method is disclosed for the fabrication of an optical grating structure. An intermediate layer (3) of a relatively low refractive index material is deposited on a planar substrate (1) of relatively low refractive index or upon a base layer (2) of relatively high-refractive index material applied to the substrate (1). The intermediate layer (3) is of a material capable of being formed precisely into a pattern corresponding to a desired grating pattern. Material is selectively removed from the intermediate layer (3) so as to create a corrugation in the intermediate layer (3) corresponding to the desired grating pattern. A surface layer (5) of relatively high refractive index material of uniform thickness is deposited on the intermediate layer (3), whereby the surface layer (5) is formed with a corrugation corresponding to the corrugation formed in the intermediate layer (3).
(FR)L'invention concerne un procédé permettant la production d'une structure de réseau optique. Une couche (3) intermédiaire d'un matériau à indice de réfraction relativement bas est déposée sur un substrat (1) plan présentant un indice de réfraction relativement bas ou sur une couche (2) de base présentant un indice de réfraction relativement élevé appliquée sur le substrat (1). La couche (3) intermédiaire est constituée d'un matériau dans lequel le motif correspondant à la structure de réseau désirée peut être formé avec précision. Le matériau est éliminé sélectivement de la couche (3) intermédiaire de manière à former dans celle-ci un motif cannelé correspondant au motif de réseau recherché. Une couche (5) de surface composée d'un matériau présentant un indice de réfraction relativement élevé d'épaisseur uniforme est déposée sur la couche (3) intermédiaire, et des cannelures correspondant aux cannelures formées dans la couche (3) intermédiaire sont formées dans la couche (5) de surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)