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1. (WO2002082015) PROCEDE DE DETERMINATION DE DISTANCE JUSQU'A UNE SOURCE D'EMISSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/082015    N° de la demande internationale :    PCT/RU2001/000463
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 02.11.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.09.2002    
CIB :
G01C 3/08 (2006.01), G01S 11/12 (2006.01), G02B 27/42 (2006.01)
Déposants : SCHETNIKOV, Anatoly Alekseevich [RU/RU]; (RU) (US Seulement).
ASHKINAZY, Yakov Mikhailovich [RU/RU]; (RU).
CHEGLAKOV, Andrei Valerievich [RU/RU]; (RU).
FEDOROV, Evgeny Nikolaevich [RU/RU]; (RU) (US Seulement)
Inventeurs : SCHETNIKOV, Anatoly Alekseevich; (RU).
ASHKINAZY, Yakov Mikhailovich; (RU).
CHEGLAKOV, Andrei Valerievich; (RU).
FEDOROV, Evgeny Nikolaevich; (RU)
Mandataire : OBSCHESTVO S OGRANICHENNOI OTVETSTVENNOSTJU 'INSMAT TEKHNOLOGYA'; ul. Gilyarovskogo, 5, Moscow, 129090 (RU)
Données relatives à la priorité :
2001108790 04.04.2001 RU
Titre (EN) METHOD FOR MEASURING DISTANCE TO AN EMISSION SOURCE
(FR) PROCEDE DE DETERMINATION DE DISTANCE JUSQU'A UNE SOURCE D'EMISSION
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to optical measurements and can be used for measuring a distance to an emitting object, in particular for measuring a distance to a punctiform light source. The inventive method for measuring the distance to the emission source S¿o? (S¿1?) consists in forming an image S¿o??1¿¿ ?(S¿1??1¿) of the source of emission with the aid of an optical system (2) and comparing said image S¿o??1¿¿ ?(S¿1??1¿) with an already known response function dependence of said optical system (2) at a distance to the source of emission S¿o? (S¿1?). Said method is characterised in that the response of the optical system (2) is modified by means of an amplitude-phase mask (1) arranged in the beam path. Said mask is formed in such a way that beams are deviated in a direction, which is mainly orthogonal with respect to the direction of the deviated beams (provoked by defocusing) in such a way that the response function is turned at a certain angle proportional to the value of defocusing. An angle of rotation of the image S¿o??1¿¿ ?(S¿1??1¿) of the source of emission S¿o? (S¿1?) is evaluated by comparing the image S¿o??1¿¿ ?(S¿1??1¿) of the source of emission S¿o? (S¿1?) with said response function, the distance to the source of emission S¿o? (S¿1?) being determined using the value of the angle of rotation. In the optimal option, the transmission factor of the amplitude-phase mask (1) is predefined in the form of a periodical function of the angle of rotation. In such a case, the modification of a signal phase of a formed image S¿o? (S¿1?) of the source of emission S¿o? (S¿1?) is defined while evaluating the angle of rotation.
(FR)L'invention se rapporte aux mesurages optiques et peut être utilisée pour mesurer la distance jusqu'à un objet rayonnant, en particulier pour déterminer la distance jusqu'à une source lumineuse ponctuelle. Le procédé de détermination de distance jusqu'à une source d'émission S¿0? (S¿1?) consiste à former une image S¿0??1¿ (S¿1??1¿) de la source d'émission à l'aide d'un système optique (2) et à comparer ladite image S¿0??1¿ (S¿1??1¿) à une dépendance fonctionnelle déjà connue de la réponse de ce système optique (2)de la distance jusqu'à la source d'émission S¿0? (S¿1?). Le procédé est caractérisé en ce que l'on modifie la réponse du système optique (2) au moyen d'un masque (1) d'amplitude et de phase aménagé sur le trajet des rayons. Ledit masque est formé de façon que ces rayons puissent être déviés dans une direction essentiellement orthogonale par rapport à la direction de déflexion des rayons (provoquée par la défocalisation) ce qui permet la fonction de réponse de tourner à un certain angle proportionnel à la valeur de défocalisation. Pendant la comparaison de l'image S¿0??1¿ (S¿1??1¿) de la source d'émission S¿0? (S¿1?) ayant ladite fonction de réponse, on évalue l'angle de rotation de l'image S¿0??1¿ (S¿1??1¿) de la source d'émission S¿0? (S¿1?). Pour la solution optimale, le facteur de transmission du masque (1) d'amplitude et de phase est spécifié sous forme de fonction périodique de l'angle de rotation. Dans ce cas, pendant évaluation de l'angle de rotation on détermine la modification de la phase de signal de l'image S¿0??1¿ (S¿1??1¿) formée de la source d'émission S¿0? (S¿1?).
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : russe (RU)
Langue de dépôt : russe (RU)