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1. (WO2002081553) COPOLYMERE CONTENANT DU SILICIUM ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/081553    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/002417
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 14.03.2002
CIB :
C08G 77/00 (2006.01), C08G 77/54 (2006.01), C08G 77/60 (2006.01), C08G 77/62 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), C08L 83/14 (2006.01)
Déposants : CLARIANT INTERNATIONAL LTD. [CH/CH]; Rothausstrasse 61 CH-4132 Muttenz 1 (CH) (Tous Sauf US).
TASHIRO, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TASHIRO, Yuji; (JP)
Mandataire : KANAO, Hiroki; Mutsumi International Patent Bureau Bandai Bldg., 10-14, Kandaawajicho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-0063 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-99092 30.03.2001 JP
Titre (EN) SILICON-CONTAINING COPOLYMER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) COPOLYMERE CONTENANT DU SILICIUM ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(EN)A silicon-containing copolymer which comprises units represented by the formulae (I) and (II) as essential units and ones represented by the formulae (III) to (VII) as optional units and has a number-average molecular weight of 500 to 1,000,000. (I) (II) (III) (IV) (V) (VI) (VII) (In the formulae, A is NH or oxygen, the proportions of these satisfying the relationship 0.01 $m(F) Si-O / (Si - N + Si-O) $m(F) 0.99.)
(FR)L'invention concerne un copolymère contenant du silicium. Ce copolymère comporte des unités essentielles représentées par les formules (I) et (II), et des unités optionnelles représentées par les formules (III) à (VII), et il présente un poids moléculaire moyen en nombre de 500 à 1 000 000. Dans les formules, A représente NH ou oxygène, les proportions correspondant à la relation 0,01 $m(F) Si-O / (Si-N + Si-O) $m(F) 0,99.
États désignés : CN, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)