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1. (WO2002081149) TAMPON ET SYSTEME DE POLISSAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/081149    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/009466
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 28.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    15.10.2002    
CIB :
A47L 11/164 (2006.01)
Déposants : SAINT-GOBAIN ABRASIVES, INC. [US/US]; 1 New Bond Street, Box Number 15138, Worcester, MA 01615-0138 (US)
Inventeurs : PIOMBINI, Robert; (CA)
Mandataire : BUJOLD, Michael, J.; Davis & Bujold, P.L.L.C., 4th Floor, 500 North Commercial Street, Manchester, NH 03101 (US)
Données relatives à la priorité :
09/826,343 04.04.2001 US
Titre (EN) POLISHING PAD AND SYSTEM
(FR) TAMPON ET SYSTEME DE POLISSAGE
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a double sided waffle-surface foam polishing pad and a polishing system with which it can be used. The double sided feature allows great versatility in the type of polishing that can be accomplished using the same pad.
(FR)L'invention concerne un tampon de polissage en mousse à surface alvéolée double face ainsi qu'un système de polissage avec lequel ce tampon peut être utilisé. L'élément double face présente une grande souplesse d'application pour ce qui est du type de polissage réalisable au moyen dudit tampon.
États désignés : AT, AU, BR, CA, CN, DE, ES, GB, ID, IN, JP, KR, MX, NZ, RU, SE, ZA.
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)