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1. (WO2002080800) LASER A FAISCEAU DOUBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/080800    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/010481
Date de publication : 17.10.2002 Date de dépôt international : 03.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    01.11.2002    
CIB :
A61B 18/00 (2006.01), A61B 18/22 (2006.01)
Déposants : TANKOVICH, Nikolai [US/US]; (US)
Inventeurs : TANKOVICH, Nikolai; (US).
LUKASHEV, Alexei; (US)
Mandataire : ROSS, John, R.; P.O. Box 2138, Del Mar, CA 92014 (US)
Données relatives à la priorité :
09/825,516 03.04.2001 US
Titre (EN) TWIN LIGHT LASER
(FR) LASER A FAISCEAU DOUBLE
Abrégé : front page image
(EN)A laser system in which the gain medium is an excited YAP:Nd crystal. The system is configured so that the crystal produces a twin laser beam comprising wavelengths at both 1079 nm and 1340 nm with substantial intensities at each wavelength. Optical components are described which establish the desired ratio of the intensities of the light at each of the two wavelengths. These ratios, I¿1079nm?/I¿1340nm?, may vary from about 0.1 to 10. In a preferred embodiment of the invention a kit including a YAP:Nd crystal and a specially coated output coupler is provided for converting an existing Nd:YAG laser system to a twin light laser capable of producing the above described twin laser beam. In another embodiment a special combination output coupler is provided which contains at least three partially reflecting mirror elements, one coated to reflect a substantial fraction of light at 1079 nm and pass light at 1340 nm, another mirror coated to reflect a substantial fraction of light at 1340 nm and pass light at 1079 nm and a third mirror coated to reflect a substantial fraction of light at both wavelengths.
(FR)L'invention concerne un système laser dans lequel le milieu de gain est un cristal YAP:Nd excité. Le système est conçu de telle sorte que le cristal produit un faisceau laser double comprenant des longueurs d'onde à 1079 nm et 1340 nm, avec des intensités essentielles à chaque longueur d'onde. Des composants optiques établissent le rapport voulu des intensités de lumière à chacune des deux longueurs d'onde. Ces rapports, I¿1079nm?/I¿1340nm?, peuvent varier approximativement de 0,1 à 10. Dans un mode de réalisation préféré, un nécessaire comprenant un cristal YAP:Nd et un coupleur de sortie à revêtement spécial est utilisé pour convertir un système laser Nd:YAG existant en un laser à faisceau double pouvant produire le faisceau laser double décrit ci-dessus. Dans un autre mode de réalisation, on utilise un coupleur de sortie combiné spécial comprenant au moins trois éléments miroirs partiellement réfléchissants, le premier présentant un revêtement réfléchissant une fraction essentielle de lumière à 1079 nm et laissant passer la lumière à 1340 nm, le deuxième présentant un revêtement réfléchissant une fraction essentielle de lumière à 1340 nm et laissant passer la lumière à 1079 nm et le troisième présentant un revêtement réfléchissant une fraction essentielle de lumière aux deux longueurs d'onde.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)