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1. (WO2002080248) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/080248    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/003107
Date de publication : 10.10.2002 Date de dépôt international : 28.03.2002
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP).
TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-Chome Minato-Ku, Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
HIRAYAMA, Masaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGAWA, Shigetoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
GOTO, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HONGOH, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OHMI, Tadahiro; (JP).
HIRAYAMA, Masaki; (JP).
SUGAWA, Shigetoshi; (JP).
GOTO, Tetsuya; (JP).
HONGOH, Toshiaki; (JP)
Mandataire : ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3 Ebisu 4-chome Shibuya-ku, Tokyo 150-6032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-094274 28.03.2001 JP
Titre (EN) PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A micro wave plasma processing device having a radial line slot antenna capable of suppressing an abnormal discharge to increase the exciting efficiency of micro wave plasma, wherein the tip part of a power supply line in a coaxial wave guide is separated from a slot plate forming a radiating surface at a connection part between the radial line slot antenna and the coaxial wave guide.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement au plasma micro-ondes comportant une antenne à fente à ligne radiale capable de supprimer une décharge anormale afin d'augmenter l'efficacité d'excitation du plasma micro-ondes, l'extrémité de la ligne d'alimentation d'un guide d'ondes coaxial étant séparée d'une plaque à fente formant une surface rayonnante à l'emplacement de connexion entre l'antenne à fente à ligne radiale et le guide d'ondes coaxial.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)