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1. (WO2002080221) PROCESSEUR INDUCTIF AU PLASMA POURVU D'UNE BOBINE A PLUSIEURS ENROULEMENTS ET PROCEDE DE REGULATION DE LA DENSITE DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/080221    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/009565
Date de publication : 10.10.2002 Date de dépôt international : 29.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    29.10.2002    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6516 (US) (Tous Sauf US).
CHEN, Jian, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
VELTROP, Robert, G. [US/US]; (US) (US Seulement).
WICKER, Thomas, E. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHEN, Jian, J.; (US).
VELTROP, Robert, G.; (US).
WICKER, Thomas, E.; (US)
Mandataire : LOWE, Allan, M.; Lowe Hauptman Gilman & Berner, LLP, 1700 Diagonal Road, Suite 310, Alexandria, VA 22314 (US)
Données relatives à la priorité :
09/821,027 30.03.2001 US
Titre (EN) INDUCTIVE PLASMA PROCESSOR HAVING COIL WITH PLURAL WINDINGS AND METHOD OF CONTROLLING PLASMA DENSITY
(FR) PROCESSEUR INDUCTIF AU PLASMA POURVU D'UNE BOBINE A PLUSIEURS ENROULEMENTS ET PROCEDE DE REGULATION DE LA DENSITE DE PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)An inductive plasma processor includes a multiple winding radio frequency coil having plural electrically parallel, spatially concentric windings (1) having different amounts of RF power supplied to them, and (2) arranged to produce electromagnetic fields having different couplings to different regions of plasma in the chamber to control plasma flux distribution incident on a processed workpiece. The coil is powered by a single radio frequency generator via a single matching network. Input and output ends of each winding are respectively connected to input and output tuning capacitors. In a first embodiment, the location of maximum inductive coupling of the radio frequency to the plasma and the current magnitude in each winding are respectively mainly determined by values of the output and input capacitors. By adjusting all the input and output capacitors simultaneously, the current to a winding can be varied while the current to the other winding can be maintained constant as if these windings were completely de-coupled andindependent. Therefore, the capacitors can control the plasma density in different radial and azimuthal regions. In another embodiment, a relatively low frequency drives the coil whereby each winding has a relatively short electrical length, causing substantially small standing wave current and voltage variations. The output capacitor for each winding adjusts current magnitude, to eliminate the need for the input capacitors and reduce operational complexity.
(FR)L'invention concerne un processeur inductif au plasma équipé d'une bobine radiofréquence à plusieurs enroulements comportant plusieurs enroulements spatialement concentriques et électriquement parallèles (1) présentant différentes quantités d'énergie RF acheminée vers ceux-ci et (2) pouvant produire des champs électromagnétiques possédant différents couplages avec différentes zones de plasma dans une chambre, d'où la régulation de la distribution du flux de plasma incident sur une pièce à usiner en cours de traitement. La bobine est alimentée en énergie au moyen d'un générateur radiofréquence unique par l'intermédiaire d'un réseau d'adaptation unique. Les extrémités d'entrée et de sortie de chaque enroulement sont respectivement connectées à des condensateurs de réglage d'entrée et de sortie. Dans un premier mode de réalisation, l'emplacement du couplage inductif maximal de la radiofréquence avec le plasma et l'amplitude du courant dans chaque enroulement sont principalement déterminés au moyen des valeurs des condensateurs de sortie et d'entrée. Grâce au réglage simultané de tous les condensateurs d'entrée et de sortie, on peut faire varier le courant fourni à un enroulement, le courant fourni à l'autre enroulement pouvant être maintenu à un niveau constant comme si ces enroulements étaient complètement découplés et indépendants l'un de l'autre. Par conséquent, les condensateurs peuvent réguler la densité de plasma dans différentes zones radiales et azimutales. Dans un autre mode de réalisation, une fréquence relativement faible excite la bobine, chaque enroulement présentant une longueur électrique relativement courte, ce qui provoque des variations de tension et de courant à ondes stationnaires sensiblement faibles. Pour chaque enroulement, le condensateur de sortie règle l'amplitude du courant de manière à supprimer la nécessité d'utiliser des condensateurs d'entrée et de réduire la complexité opérationnelle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)