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1. (WO2002079760) DIFFUSIOMETRE POLARIMETRIQUE POUR MESURES DE DIMENSIONS CRITIQUES DE STRUCTURES PERIODIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/079760    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/009938
Date de publication : 10.10.2002 Date de dépôt international : 29.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.09.2002    
CIB :
G01N 21/21 (2006.01), G01N 21/25 (2006.01), G01N 21/47 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01)
Déposants : THERMA-WAVE, INC. [US/US]; 1250 Reliance Way, Fremont, CA 94539 (US)
Inventeurs : NORTON, Adam, E.; (US).
SEZGINER, Abdurrahman; (US).
STANKE, Fred, E.; (US)
Mandataire : SCHNECK, Thomas; Law Offices of Thomas Schneck, P.O. Box 2-E, San Jose, CA 95109-0005 (US)
Données relatives à la priorité :
60/280,714 30.03.2001 US
Titre (EN) POLARIMETRIC SCATTEROMETER FOR CRITICAL DIMENSION MEASUREMENTS OF PERIODIC STRUCTURES
(FR) DIFFUSIOMETRE POLARIMETRIQUE POUR MESURES DE DIMENSIONS CRITIQUES DE STRUCTURES PERIODIQUES
Abrégé : front page image
(EN)An optical measurement system for evaluating a sample has an azimuthally rotatable measurement head. A motor-driven rotating mechanism is coupled to the measurement head to allow the optics to rotate with respect to the sample. In particular, a preferred embodiment is a polarimetric scatterometer (Fig. 1) for measuring optical properties of a periodic structure on a wafer sample (12). This scatterometer has optics (30) directing a polarized illumination beam at non-normal incidence onto the periodic structure. In addition to a polarizer (8), the illumination path can also be provided with an E-O modulator for modulating the polarization. The measurement head optics also collect light reflected from the periodic structure and feed that light to a spectrometer (17) for measurement. A polarization beamsplitter (18) is provided in the collection path so that both S and P polarization from the sample can be separately measured. The entire measurement head can be mounted for rotation of the plane of incidence to different azimuthal directions relative to the periodic structures on the wafer. The instrument can be integrated within a wafer process tool in which wafers may be provided at arbitrary orientation.
(FR)L'invention concerne un système de mesure optique destiné à évaluer un échantillon et comprenant une tête de mesure pouvant tourner de manière azimutale. Un mécanisme rotatif entraîné par moteur est couplé à la tête de mesure en vue de permettre aux éléments optiques de tourner par rapport à l'échantillon. Plus particulièrement, un mode de réalisation préféré fait intervenir un diffusiomètre polarimétrique (Fig. 1) destiné à mesurer les propriétés optiques d'une structure périodique sur un échantillon de tranche (12). Ce diffusiomètre comprend des éléments optiques (30) dirigeant un faisceau d'éclairement polarisé avec une incidence non normale sur la structure périodique. Outre un polariseur (8), le trajet d'éclairement peut également comprendre un modulateur électro-optique destiné à moduler la polarisation. Les éléments optiques de la tête de mesure recueillent également la lumière réfléchie à partir de la structure périodique et acheminent cette lumière vers un spectromètre (17) en vue d'une mesure. Un diviseur de faisceau de polarisation (18) est disposé dans le trajet de collecte de manière que les polarisations S et P issues de l'échantillon puissent être mesurées séparément. La tête de mesure peut être entièrement montée en vue d'une rotation du plan d'incidence selon différents sens azimutaux par rapport aux structures périodiques sur la tranche. Cet instrument peut être intégré dans un outil de traitement de tranches dans lequel les tranches peuvent présenter une orientation arbitraire.
États désignés : JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)