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1. (WO2002079720) MICRO-INTERFEROMETRE DESTINE A DES MESURES DE DISTANCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/079720    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/009984
Date de publication : 10.10.2002 Date de dépôt international : 29.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.10.2002    
CIB :
G01B 9/02 (2006.01), G01B 11/02 (2006.01)
Déposants : GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION [US/US]; 505 Tenth Street, N.W. Atlanta, GA 30332-0415 (US)
Inventeurs : DEGERTEKIN, Fahrettin, L.; (US).
KURFESS, Thomas, Roland; (US).
KIM, Byungki; (US).
RAZAVI, Hosein, Ali; (US)
Mandataire : HORSTEMEYER, Scott, A.; Thomas, Kayden, Horstemeyer & Risley, LLP, 100 Galleria Parkway, NW, Suite 1750, Atlanta, GA 30339-5948 (US)
Données relatives à la priorité :
60/279,575 29.03.2001 US
60/356,942 13.02.2002 US
60/356,960 13.02.2002 US
Titre (EN) MICROINTERFEROMETER FOR DISTANCE MEASUREMENTS
(FR) MICRO-INTERFEROMETRE DESTINE A DES MESURES DE DISTANCE
Abrégé : front page image
(EN)Several embodiments of a microinterferometer are disclosed. A first embodiment of a microinterferometer (100) for measuring the absolute distance to an object surface (110) includes a substrate (152). The microinterferometer also includes a phase-sensitive, reflective diffraction grating (156) formed on the substrate (152). The diffraction grating (156) is configured to reflect a first portion of an incident light and transmit a second portion of the incident light, such that the second portion of the incident light is diffracted. The microinterferometer (100) further includes a lens (154) formed on the substrate (152) for focusing the second portion of the incident light to a predetermined local distance, and a photo-detector (120) for receiving interference patterns produced from the first portion of the incident light reflected from the diffraction grating (156) and the second portion of the incident light reflected from the object surface (110).
(FR)L'invention concerne plusieurs modes de réalisation d'un micro-interféromètre. Un premier mode de réalisation d'un micro-interféromètre (100) permettant de mesurer la distance absolue à la surface d'un objet (110) comprend un substrat (152). Le micro-interféromètre comprend également un réseau de diffraction réfléchissant asservi en phase (156), formé sur le substrat (152). Le réseau de diffraction (156) est conçu de manière à réfléchir une première partie d'un rayonnement incident et à transmettre une seconde partie du rayonnement incident, de manière que la seconde partie du rayonnement incident soit diffractée. Le micro-interféromètre (100) comprend également une lentille (154) formée sur le substrat (152) permettant de focaliser la seconde partie du rayonnement incident à une distance locale prédéterminée, ainsi qu'un photo-détecteur (120) permettant de recevoir des motifs d'interférence obtenus à partir de la première partie du rayonnement incident réfléchie à partir du réseau de diffraction (156) et de la seconde partie du rayonnement incident réfléchie à partir de la surface de l'objet (110).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)