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1. (WO2002078820) PROCEDE POUR ULTRAPURIFIER DES GAZ A EFFET CORROSIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/078820    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/002295
Date de publication : 10.10.2002 Date de dépôt international : 04.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    02.10.2002    
CIB :
B01D 53/14 (2006.01), B01D 53/22 (2006.01), C01B 7/07 (2006.01), C01B 7/19 (2006.01), C01C 1/02 (2006.01)
Déposants : MERCK PATENT GMBH [DE/DE]; Frankfurter Strasse 250, 64293 Darmstadt (DE) (Tous Sauf US).
NEUMANN, Ewald [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HIMMLER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
BÜTTNER, Werner [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FRITSCH, Harald [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHMIDT, Hans-Jürgen [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HOSTALEK, Martin [DE/SG]; (SG) (US Seulement)
Inventeurs : NEUMANN, Ewald; (DE).
HIMMLER, Wolfgang; (DE).
BÜTTNER, Werner; (DE).
FRITSCH, Harald; (DE).
SCHMIDT, Hans-Jürgen; (DE).
HOSTALEK, Martin; (SG)
Représentant
commun :
MERCK PATENT GMBH; Frankfurter Strasse 250, 64293 Darmstadt (DE)
Données relatives à la priorité :
101 15 345.7 28.03.2001 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR AUFREINIGUNG VON KORROSIV WIRKENDEN GASEN
(EN) METHOD FOR THE PURIFICATION OF CORROSIVE GASES
(FR) PROCEDE POUR ULTRAPURIFIER DES GAZ A EFFET CORROSIF
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfahren zur Herstellung von hochreinen, äußerst partikelarmen Chemikalien wie Ammoniakgas, Flurwasserstoff und Chlorwasserstoff, welche auch als wässrige Lösungen in der Halbleitertechnologie Anwendung finden. das korrosiv wirkebde Gas mit einem Absorptionsmittel angereichert wird, welches mit dem Gas mischbar ist und in dem die im Gas enthaltenen Verunreinigungen löslich sind, und anschließend das Gas einer Membranfiltration unterzogen wird.
(EN)The invention relates to a novel method for the production of highly pure, highly particle-free chemicals, such as ammonia gas, hydrogen fluoride and hydrogen chloride, which find application as solutions in semiconductor technology. An adsorption agent, miscible with the gas and soluble in the impurities present in the gas, is added to the corrosive gas and the gas subjected to a membrane filtration.
(FR)La présente invention concerne un nouveau procédé permettant de produire des produits chimiques de grande pureté exceptionnellement pauvres en particules, tels que du gaz ammoniac, du fluor-hydrogène et du gaz chlorhydrique, lesquels peuvent également être utilisés sous forme de solutions aqueuses dans la technologie des semi-conducteurs. Le gaz à effet corrosif est enrichi avec un agent d'absorption qui peut être mélangé avec lui et dans lequel des impuretés contenues dans le gaz sont solubles, ledit gaz étant ensuite soumis à une filtration par membrane.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)