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1. (WO2002078072) UNITE ET PROCEDE DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/078072    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/002627
Date de publication : 03.10.2002 Date de dépôt international : 19.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.08.2002    
CIB :
B01J 19/08 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
ISHII, Nobuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ANDO, Makoto [JP/JP]; (JP).
TAKAHASHI, Masaharu [JP/JP]; (JP).
YASAKA, Yasuyoshi [JP/JP]; (JP)
Inventeurs : ISHII, Nobuo; (JP).
ANDO, Makoto; (JP).
TAKAHASHI, Masaharu; (JP).
YASAKA, Yasuyoshi; (JP)
Mandataire : FUKAMI, Hisao; Mitsui Sumitomo Bank Minamimorimachi Bldg., 1-29, Minamimorimachi 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-0054 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-82769 22.03.2001 JP
Titre (EN) PLASMA PROCESSOR AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) UNITE ET PROCEDE DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A spiral line with an interval (d) approximately N times (N is a natural number) the wavelength $g(l)g of an electromagnetic field in a radial antenna (30) has slots (36) of the radial antenna (30) for feeding the electromagnetic field into a processing container. An electromagnetic field is fed from the central section of this radial antenna (30) at a rotation mode.
(FR)Selon l'invention, une ligne spirale avec un intervalle (d) approximativement égal à N fois (N est un nombre naturel) la longueur d'onde λg d'un champ électromagnétique dans une antenne radiale (30) comporte des fentes (36) pratiquées dans l'antenne (30) afin de faire passer le champ électromagnétique dans un réceptacle de traitement. Le champ électromagnétique part de la section centrale de l'antenne radiale (30) dans un mode de rotation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)