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1. (WO2002078062) DETECTION ACOUSTIQUE DE SEPARATION ET DISPOSITIF ASSOCIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/078062    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/006649
Date de publication : 03.10.2002 Date de dépôt international : 21.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.09.2002    
CIB :
H01L 21/683 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
FISCHER, Andreas [DE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : FISCHER, Andreas; (US)
Mandataire : PETERSON, James, W.; Burns, Doane, Swecker & Mathis, LLP, P.O. Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404 (US)
Données relatives à la priorité :
09/817,162 27.03.2001 US
Titre (EN) ACOUSTIC DETECTION OF DECHUCKING AND APPARATUS THEREFOR
(FR) DETECTION ACOUSTIQUE DE SEPARATION ET DISPOSITIF ASSOCIE
Abrégé : front page image
(EN)In a vacuum processing chamber, a monitoring arrangement for detecting when a substrate is sufficiently dechucked by an electrostatic clamp to allow safe movement thereof by a transfer mechanism such as a pin lifter. The monitoring arrangement includes an acoustic generator which outputs a sound wave at the resonant frequency of the substrate and the dechucking condition is detected when the sound wave is adsorbed by the substrate. The arrangement can be used during processing of wafers such as plasma etching or chemical vapor deposition.
(FR)Dans une chambre de traitement à vide, l'invention concerne un dispositif de surveillance permettant de détecter si un substrat est suffisamment détaché par une pince électrostatique pour permettre un déplacement sûr dudit substrat par un mécanisme de transfert, p. ex. dispositif de levage à broches. Le dispositif de surveillance comprend un générateur acoustique qui produit une onde sonore à la fréquence de résonance du substrat, un état de séparation étant détecté lorsque l'onde sonore est adsorbée par le substrat. Le dispositif peut être utilisé pendant le traitement de tranches, p. ex. gravure par plasma ou dépôt chimique en phase vapeur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)