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1. (WO2002078045) PROCEDES ET DISPOSITIF POUR REGLAGE DE L'UNIFORMITE D'UN FAISCEAU BALAYE DANS DES IMPLANTEURS IONIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/078045    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/007848
Date de publication : 03.10.2002 Date de dépôt international : 14.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.10.2002    
CIB :
G21K 1/08 (2006.01), H01J 37/304 (2006.01)
Déposants : VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road, Gloucester, MA 01930 (US)
Inventeurs : OLSON, Joseph, C.; (US).
MOLLICA, Rosario; (US)
Mandataire : MCCLELLAN, William, R.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C., 600 Atlantic Avenue, Boston, MA 02210 (US)
Données relatives à la priorité :
09/815,484 23.03.2001 US
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR SCANNED BEAM UNIFORMITY ADJUSTMENT IN ION IMPLANTERS
(FR) PROCEDES ET DISPOSITIF POUR REGLAGE DE L'UNIFORMITE D'UN FAISCEAU BALAYE DANS DES IMPLANTEURS IONIQUES
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatus are provided for adjusting the profile of a scanned ion beam. The spatial distribution of the unscanned ion beam is measured. The ion beam is scanned at an initial scan speed, and the beam profile of the scanned ion beam is measured. If the measured beam profile is not within specification, a scan speed correction that produces a desired profile correction is determined using a calculation which is based on the spatial distribution of the unscanned ion beam. The scan speed correction may be determined by convolving a candidate scan speed correction with the spatial distribution of the unscanned ion beam to produce a result and determining if the result is sufficiently close to the desired profile correction. A multi-dimensional search algorithm may be used to select the candidate scan speed correction. The ion beam is scanned at a correction scan speed, which is based on the initial scan speed and the scan speed correction, to produce corrected beam profile.
(FR)procédés et dispositif de réglage du profil d'un faisceau ionique balayé. Après avoir mesuré la répartition spatiale d'un faisceau ionique avant balayage, on balaie ledit faisceau à une première vitesse de balayage et l'on mesure le profil du faisceau balayé. Si le profil du faisceau balayé n'est pas conforme, on détermine une correction de vitesse de balayage pour ajuster le profil comme requis au moyen d'un calcul reposant sur la répartition spatiale du faisceau ionique avant balayage. Pour déterminer la correction de la vitesse de balayage, on peut procéder à une convolution d'une correction de vitesse de balayage candidate avec la répartition spatiale de faisceau ionique non balayé pour obtenir un résultat dont on décidera s'il est suffisamment proche de la correction de profil recherchée. Le choix d'une correction de vitesse de balayage candidate peut se faire à l'aide d'un algorithme de recherche multidimensionnel. Le faisceau ionique est alors balayé à la vitesse corrigée, laquelle est fonction de la vitesse de balayage initiale et de la correction de la vitesse de balayage, ce qui permet de produire un profil de faisceau corrigé.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)