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1. (WO2002078041) APPAREIL DE TRAITEMENT PAR FAISCEAU DE PARTICULES NEUTRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/078041    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/002750
Date de publication : 03.10.2002 Date de dépôt international : 22.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.10.2002    
CIB :
G21K 1/14 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01), H05H 3/02 (2006.01)
Déposants : EBARA CORPORATION [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 144-8510 (JP) (Tous Sauf US).
ICHIKI, Katsunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAUCHI, Kazuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIYAMA, Hirokuni [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAMUKAWA, Seiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ICHIKI, Katsunori; (JP).
YAMAUCHI, Kazuo; (JP).
HIYAMA, Hirokuni; (JP).
SAMUKAWA, Seiji; (JP)
Mandataire : WATANABE, Isamu; GOWA Nishi-Shinjuku 4F, 5-8, Nishi-Shinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-088866 26.03.2001 JP
Titre (EN) NEUTRAL PARTICLE BEAM PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT PAR FAISCEAU DE PARTICULES NEUTRES
Abrégé : front page image
(EN)A neutral particle beam processing apparatus comprises a workpiece holder (20) for holding a workpiece (X), a plasma generator for generating a plasma in a vacuum chamber (3), an orifice electrode (5) disposed between the workpiece holder (20) and the plasma generator, and a grid electrode (4) disposed upstream of the orifice electrode (5) in the vacuum chamber (3). The orifice electrode (5) has orifices (5a) defined therein. The neutral particle beam processing apparatus further comprises a voltage applying unit for applying a voltage between the orifice electrode (5) and the grid electrode (4) via a dielectric (5b) to extract positive ions from the plasma generated by the plasma generator and pass the extracted positive ions through the orifices (5a) in the orifice electrode (5).
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement par faisceau de particules neutres comprenant un support de pièce à travailler (20) destiné à supporter une pièce à travailler (X), un générateur de plasma permettant de générer un plasma dans une chambre à vide (3), une électrode à orifices (5) disposée entre le support de pièce à travailler (20) et le générateur de plasma, ainsi qu'une électrode à grille (4) disposée en amont de l'électrode à orifices (5) dans la chambre à vide (3). L'électrode à orifices (5) présente des orifices (5a) définis dans celle-ci. L'appareil de traitement par faisceau de particules neutres comprend une unité d'application de tension permettant d'appliquer une tension entre l'électrode à orifices (5) et l'électrode à grille (4) via un matériau diélectrique (5b), de manière à extraire des ions positifs du plasma généré par le générateur de plasma et à passer les ions positifs extraits à travers les orifices (5a) dans l'électrode à orifices (5).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)