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1. (WO2002077821) PROCEDE ET SYSTEME POUR L'ETABLISSEMENT CONCERTE DE PROFIL PERMETTANT LA DETECTION EN CONTINU DE TRANSITION DE PHASE DE PROFIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/077821    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/006292
Date de publication : 03.10.2002 Date de dépôt international : 28.02.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.10.2002    
CIB :
G06F 11/36 (2006.01)
Déposants : INTEL CORPORATION [US/US]; (a Delawere Corporation), 2200 Mission College Boulevard, Santa Clara, CA 95052 (US) (Tous Sauf US).
WU, Youfeng [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WU, Youfeng; (US)
Mandataire : MALLIE, Michael, J.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman, 7th floor, 12400 Wilshire Boulevard, Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
09/818,688 26.03.2001 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR COLLABORATIVE PROFILING FOR CONTINUOUS DETECTION OF PROFILE PHASE
(FR) PROCEDE ET SYSTEME POUR L'ETABLISSEMENT CONCERTE DE PROFIL PERMETTANT LA DETECTION EN CONTINU DE TRANSITION DE PHASE DE PROFIL
Abrégé : front page image
(EN)A method and system for collaborative profiling for continuous detection of profile phase transitions is disclosed. In one embodiment, the method, comprises using hardware and software to perform continuous edge profiling on a program detecting profile phase transitions continuously; and optimizing the program based upon the profile phase transitions and edge profile.
(FR)L'invention concerne un procédé et un système pour l'établissement concerté de profil, permettant la détection en continu de transition de phase de profil. Selon une variante, le procédé consiste à utiliser le matériel et le logiciel requis pour l'établissement en continu de profil par le contour, sur un programme; à détecter en continu les transitions de phase de profil; et à optimiser le programme en fonction des transitions de phase de profil et des profils établis par le contour.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)