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1. (WO2002077709) COMPOSITION DE PHOTORESINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/077709    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/007940
Date de publication : 03.10.2002 Date de dépôt international : 14.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.10.2002    
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : SHIPLEY COMPANY, L.L.C. [US/US]; 455 Forest Street, Marlborough, MA 01752 (US)
Inventeurs : SZMANDA, Charles, R.; (US)
Mandataire : CORLESS, Peter, F.; Edwards & Angell, LLP, Dike, Bronstein, Roberts & Cushman, IP Group, P.O. Box 9169, Boston, MA 02109 (US)
Données relatives à la priorité :
60/277,874 22.03.2001 US
Titre (EN) PHOTORESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE PHOTORESINE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are photoresist compositions suitable for imaging with sub 200 nm wavelength radiation including as polymerized units one or more monomers having an electronegative substituent and an ester group containing certain leaving groups. Also disclosed are methods of providing photoresist relief images using the photoresist compositions.
(FR)L'invention concerne des compositions de photorésine adaptées pour être utilisées en imagerie par rayonnement d'une longueur d'ondes inférieure à 200 nm. Ces compositions renferment en tant qu'éléments polymérisées un ou plusieurs monomères présentant un substituant électronégatif et un groupe ester qui contient certains groupes partants. Cette invention concerne également des procédés pour produire des hologrammes à photorésine à l'aide desdites compositions de photorésine.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)