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1. (WO2002077331) PROCEDE D'APLANISSEMENT D'UNE SURFACE EN CRISTAL D'OXYDE A UN DEGRE ULTRA ELEVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2002/077331 N° de la demande internationale : PCT/JP2002/002488
Date de publication : 03.10.2002 Date de dépôt international : 15.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 24.07.2002
CIB :
C30B 33/00 (2006.01) ,C30B 33/10 (2006.01)
Déposants : KOINUMA, Hideomi[JP/JP]; JP (UsOnly)
MATSUMOTO, Yuji[JP/JP]; JP (UsOnly)
SASAKI, Takatomo[JP/JP]; JP (UsOnly)
MORI, Yusuke[JP/JP]; JP (UsOnly)
YOSHIMURA, Masashi[JP/JP]; JP (UsOnly)
JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY CORPORATION[JP/JP]; 1-8, Hon-cho 4-chome Kawaguchi-shi, Saitama 332-0012, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : KOINUMA, Hideomi; JP
MATSUMOTO, Yuji; JP
SASAKI, Takatomo; JP
MORI, Yusuke; JP
YOSHIMURA, Masashi; JP
Mandataire : HIRAYAMA, Kazuyuki; 6th Floor, Shinjukugyoen Bldg. 3-10, Shinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022, JP
Données relatives à la priorité :
2001-7545816.03.2001JP
Titre (EN) METHOD FOR FLATTENING SURFACE OF OXIDE CRYSTAL TO ULTRA HIGH DEGREE
(FR) PROCEDE D'APLANISSEMENT D'UNE SURFACE EN CRISTAL D'OXYDE A UN DEGRE ULTRA ELEVE
Abrégé : front page image
(EN) A method for flattening the surface of an oxide crystal insoluble in an acid or an alkali to an ultra high degree, which comprises reducing the surface of an oxide crystal insoluble in an acid or an alkali with a reducing agent, dissolving the reduced surface of the oxide crystal with an aqueous solution of an acid or an alkali, and subjecting the oxide crystal having the dissolved surface to a heat treatment in the atmosphere, to thereby flatten the surface of the oxide crystal to an ultra high degree at an atomic level of roughness; a method for preparing a single crystal thin film of a ReCa4O(BO3)3 based oxide using the above method; a single crystal thin film of a ReCa4O(BO3)3 based oxide exhibiting SHG property; a method for flattening the surface to be used for the entrance or emission of a light of such an oxide optical crystal to an ultra high degree using the above method; and a method for evaluating the defect of such an oxide optical crystal using the above method.
(FR) L'invention concerne un procédé d'aplanissement de la surface d'un cristal d'oxyde insoluble dans un acide ou un alcali, à un degré ultra élevé, lequel consiste à réduire la surface d'un cristal d'oxyde insoluble dans un acide ou un alcali avec un agent de réduction, à dissoudre la surface réduite du cristal d'oxyde avec une solution aqueuse d'un acide ou d'un alcali, et à soumettre le cristal d'oxyde ayant la surface dissoute à un traitement thermique dans l'atmosphère, afin d'aplanir ainsi la surface du cristal d'oxyde à un degré ultra élevé, à un niveau atomique de rugosité; un procédé de préparation d'une couche mince monocristalline d'un oxyde à base de ReCa4O(BO3)3 à l'aide du procédé précité; une couche mince monocristalline d'un oxyde à base de ReCa4O(BO3)3 présentant une propriété SHG; un procédé d'aplanissement de la surface à utiliser pour l'entrée ou l'émission d'une lumière d'un tel cristal optique d'oxyde à un degré ultra élevé à l'aide du procédé précité; et un procédé d'évaluation du défaut d'un tel cristal optique d'oxyde à l'aide du procédé précité.
États désignés : CN, JP, KR, US
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)