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1. (WO2002076958) PROCEDE DE PRODUCTION DE COMPOSES OXAZOLES 5-SUBSTITUES ET DE COMPOSES IMIDAZOLES 5-SUBSTITUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/076958    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/002704
Date de publication : 03.10.2002 Date de dépôt international : 20.03.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.09.2002    
CIB :
C07D 233/54 (2006.01), C07D 263/32 (2006.01)
Déposants : NIPPON SODA CO., LTD. [JP/JP]; 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8165 (JP) (Tous Sauf US).
OGIHARA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUI, Nobuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAZAKI, Hidekazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OGIHARA, Atsushi; (JP).
SAKAI, Hiroshi; (JP).
MATSUI, Nobuo; (JP).
MIYAZAKI, Hidekazu; (JP)
Mandataire : TOKAI, Yusaku; c/o Nippon Soda Co., Ltd., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8165 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-84092 23.03.2001 JP
2001-84183 23.03.2001 JP
2001-84184 23.03.2001 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING 5-SUBSTITUTED OXAZOLE COMPOUNDS AND 5-SUBSTITUTED IMIDAZOLE COMPOUNDS
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE COMPOSES OXAZOLES 5-SUBSTITUES ET DE COMPOSES IMIDAZOLES 5-SUBSTITUES
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing heterocyclic compounds which are useful as pesticides, drugs, functional materials or intermediates thereof. TosMIC is reacted with an aldehyde or an imino compound (1) in a solvent mixture of an aprotic solvent with a protic solvent in the presence of a base, (2) in the presence of a phase-transfer catalyst and an inorganic base, or (3) in the presence of an organic base. Thus, a desired product can be efficiently obtained using a solution without isolating TosMIC which is irritating and unstable, has a low decomposition point and shows explosivility.
(FR)L'invention concerne un procédé destiné à produire des composés hétérocycliques utiles comme pesticides, médicaments ou matières fonctionnelles, ou leurs produits intermédiaires. On fait réagir du TosMIC avec un aldéhyde ou un composé imino (1) dans un mélange de solvants renfermant un solvant aprotique et un solvant protique en présence d'une base, (2) en présence d'un catalyseur de transfert de phase et d'une base inorganique, ou (3) en présence d'une base organique. On peut ainsi préparer efficacement un produit souhaité au moyen d'une solution sans qu'il soit nécessaire d'isoler le TosMIC, substance irritante et instable présentant un faible point de décomposition et une explosibilité élevée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)