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1. WO2002062711 - DISPOSITIF DE PRODUCTION DE SOLUTION AQUEUSE A ATOME LIBRE, PROCEDE DE PRODUCTION DE SOLUTION AQUEUSE A ATOME LIBRE, ET SOLUTION AQUEUSE A ATOME LIBRE

Numéro de publication WO/2002/062711
Date de publication 15.08.2002
N° de la demande internationale PCT/JP2001/008648
Date du dépôt international 01.10.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 12.08.2002
CIB
C02F 1/30 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
02TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
FTRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
30par irradiation
C02F 1/42 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
02TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
FTRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
42par échange d'ions
C02F 1/48 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
02TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
FTRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
48au moyen de champs magnétiques ou électriques
C02F 1/68 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
02TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
FTRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
68par addition de substances spécifiées, pour améliorer l'eau potable, p.ex. par addition d'oligo-éléments
C02F 1/74 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
02TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
FTRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
72par oxydation
74au moyen de l'air
C02F 1/76 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
02TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
FTRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
72par oxydation
76au moyen d'halogènes ou de composés halogénés
CPC
C02F 1/30
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
30by irradiation
C02F 1/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
42by ion-exchange
C02F 1/46
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
46by electrochemical methods
C02F 1/48
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
48with magnetic or electric fields
C02F 1/68
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
68by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water
C02F 1/70
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
70by reduction
Déposants
  • MIKASAVETS INC. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • FUKUI, Kenji [JP]/[JP] (UsOnly)
  • KAMIYA, Hiroaki [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • FUKUI, Kenji
  • KAMIYA, Hiroaki
Mandataires
  • KUDOH, Minoru
Données relatives à la priorité
2001-02748202.02.2001JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) FREE ATOM AQUEOUS SOLUTION PRODUCING APPARATUS, FREE-ATOM AQUEOUS SOLUTION PRODUCING METHOD, AND FREE-ATOM AQUEOUS SOLUTION
(FR) DISPOSITIF DE PRODUCTION DE SOLUTION AQUEUSE A ATOME LIBRE, PROCEDE DE PRODUCTION DE SOLUTION AQUEUSE A ATOME LIBRE, ET SOLUTION AQUEUSE A ATOME LIBRE
Abrégé
(EN) A free-atom aqueous solution producing apparatus comprises an inlet port (6) for introducing water, a dechlorinating unit (1) for producing a first water by decomposing chlorides in the introduced water, a magnetic treating unit (2) for producing a second water by applying a magnetic field to the first water, a radiation treating unit (3) for producing a third water by irradiating the second water with radiation, an ion exchanging unit (4) for producing a fourth water by ion-exchanging the third water, an electric field applying unit (5) for producing a fifth water by applying a high electric field to the fourth water, and a fifth-water outlet port (7-5) for taking out the fifth water. The apparatus can produce water having bactericidal/disinfectant actions and a strong detergency.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de production de solution aqueuse à atome libre comprenant: un orifice d'entrée (6) permettant l'introduction d'eau; une unité de déchloration (1) servant à produire un premier type d'eau par décomposition de chlorures dans l'eau qui a été introduite; une unité de traitement magnétique (2) servant à produire un deuxième type d'eau par application d'un champ magnétique au premier type d'eau; une unité de traitement par rayonnement (3) servant à produire un troisième type d'eau par exposition du deuxième type d'eau à un rayonnement; une unité d'échange ionique (4) servant à produire un quatrième type d'eau grâce à un échange ionique réalisé sur le troisième type d'eau; une unité d'application de champ électrique (5) servant à produire un cinquième type d'eau par application d'un champ électrique élevé au quatrième type d'eau; et un orifice de sortie de cinquième type d'eau (7-5) servant à l'extraction du cinquième type d'eau. Le dispositif permet de produire de l'eau ayant des actions bactéricides/désinfectantes et une forte action détergente.
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