WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002050614) STRUCTURE ET PROCEDE DE CORRECTION D'EFFETS DE PROXIMITE DANS UN MASQUE A DECALAGE DE PHASE ATTENUE A TROIS TONALITES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2002/050614 N° de la demande internationale : PCT/US2001/047687
Date de publication : 27.06.2002 Date de dépôt international : 30.11.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 05.07.2002
CIB :
G03F 1/00 (2012.01) ,G03F 1/29 (2012.01) ,G03F 1/32 (2012.01) ,G03F 1/36 (2012.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NUMERICAL TECHNOLOGIES, INC.[US/US]; 70 West Plumeria Drive San Jose, CA 95134-2134, US
Inventeurs : PIERRAT, Christophe; US
ZHANG, Youping; US
Mandataire : HARMS, Jeanette; Bever, Hoffman & Harms, LLP 2099 Gateway Place Suite 320 San Jose, CA 95110-1017, US
FREEMAN, Jacqueline, C.; W.P. Thompson & Co. 55 Drury Lane London WC2B 5SQ, GB
Données relatives à la priorité :
09/746,36920.12.2000US
Titre (EN) STRUCTURE AND METHOD OF CORRECTING PROXIMITY EFFECTS IN A TRI-TONE ATTENUATED PHASE-SHIFTING MASK
(FR) STRUCTURE ET PROCEDE DE CORRECTION D'EFFETS DE PROXIMITE DANS UN MASQUE A DECALAGE DE PHASE ATTENUE A TROIS TONALITES
Abrégé : front page image
(EN) A structure and method are provided for correcting the optical proximity effects on a tri-tone attenuated phase-shifting mask. An attenuated rim, formed by an opaque region and an attenuated phase-shifting region, can be kept at a predetermined width across the mask or for certain types of structures. Typically, the attenuated rim is made as large as possible to maximize the effect of the attenuated phase-shifting region while still preventing the printing of larger portions of the attenuated phase-shifting region during the development process.
(FR) L'invention concerne une structure et un procédé permettant de corriger les effets de proximité optique d'un masque à décalage de phase atténué à trois tonalités. Pour certains types de structures, il est possible de maintenir sur le travers du masque, sous une largeur prédéterminée, un bord atténué formé par une région opaque et une région à décalage de phase atténué. Le bord atténué est typiquement réalisé aussi grand que possible afin de maximiser l'effet de la région à décalage de phase atténué tout en empêchant toujours l'impression de portions plus grandes de la région à décalage de phase atténué lors du procédé de développement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)