WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002049009) PROCEDE PHOTOLITHOGRAPHIQUE PERMETTANT DE PRODUIRE DES DISQUES, CARTES ET AUTRES ELEMENTS OPTIQUES ORIGINAUX POURVUS DE MICRO-RELIEFS ET DISPOSITIFS MICROMINIATURISES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/049009    N° de la demande internationale :    PCT/IL2001/001156
Date de publication : 20.06.2002 Date de dépôt international : 12.12.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.09.2002    
CIB :
G11B 7/00 (2006.01)
Déposants : CONSELLATION TRID INC. [US/US]; 805 Third Avenue 14th floor New York, NY 10022 (US) (Tous Sauf US).
LEVICH, Eugene [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
MAGNITSKII, Sergei [RU/RU]; (RU) (US Seulement).
KOZENKOV, Vladimir [RU/RU]; (RU) (US Seulement)
Inventeurs : LEVICH, Eugene; (IL).
MAGNITSKII, Sergei; (RU).
KOZENKOV, Vladimir; (RU)
Données relatives à la priorité :
60/254,539 12.12.2000 US
Titre (EN) PHOTOLITHOGRAPHIC METHOD INCLUDING MEASUREMENT OF THE LATENT IMAGE
(FR) PROCEDE PHOTOLITHOGRAPHIQUE PERMETTANT DE PRODUIRE DES DISQUES, CARTES ET AUTRES ELEMENTS OPTIQUES ORIGINAUX POURVUS DE MICRO-RELIEFS ET DISPOSITIFS MICROMINIATURISES
Abrégé : front page image
(EN)The contactless nondestructive method for checking and correcting the exposure pattern based upon measurement of the latent image pattern formed in a resist prior to development (figure 1b). The process may be used with various photoresists to form patterns useful as stampers or molds for optical disks, optical cards, diffractive optics and other minute articles. The method includes illumination of the latent image with light which the photoresist is not sensitive to and measurement of the polarization of that light before and after interacting with exposed and unexposed areas of the photoresist.
(FR)La présente invention concerne un procédé non destructif et sans contact permettant de vérifier et de régler la qualité d'une topologie volumétrique spatiale de l'image modèle latente servant de modèle spatial de micro-cuvettes d'informations de précurseurs originaux de disque optique ou de modèle de précurseurs de régions à micro-reliefs de divers éléments optiques à diffraction et de dispositifs originaux microminiaturisés qui sont produits par voie photolithographique dans une couche de résine photosensible et sont conçus pour une production ultérieure de matrices de ceux-ci et pour une reproduction en masse mettant en oeuvre un moulage par injection ou une photopolymérisation. Ce procédé consiste à éclairer la couche de résine photosensible en utilisant un rayonnement polarisé chimiquement actif, qui porte des informations concernant la future microstructure spatiale de divers produits originaux à micro-reliefs, puis à reproduire la topologie spatiale produite dans la couche avant le développement de la couche exposée, en utilisant un rayonnement à nouveau polarisé, mais cette fois non chimiquement actif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)