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1. (WO2002048202) PHOTO-INITIATEURS ACTIFS EN SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/048202    N° de la demande internationale :    PCT/EP2001/014354
Date de publication : 20.06.2002 Date de dépôt international : 06.12.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.06.2002    
CIB :
C07C 45/54 (2006.01), C07C 45/64 (2006.01), C07C 45/71 (2006.01), C07C 49/825 (2006.01), C07C 49/84 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
Déposants : CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. [CH/CH]; Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH) (Tous Sauf US).
BAUDIN, Gisèle [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
JUNG, Tunja [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BAUDIN, Gisèle; (CH).
JUNG, Tunja; (DE)
Représentant
commun :
CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.; Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH)
Données relatives à la priorité :
00811184.1 13.12.2000 EP
Titre (EN) SURFACE-ACTIVE PHOTOINITIATORS
(FR) PHOTO-INITIATEURS ACTIFS EN SURFACE
Abrégé : front page image
(EN)A process for the production of coatings with scratch-resistant durable surfaces that comprise as photoinitiator (B) in a photocurable formulation at least one surface-active photoinitiator, concentrated at the surface of the formulation, of formula (Ia) or (Ib), wherein R¿a? is a radical of formula (IIa), R¿b? is a radical of formula (IIb), or R¿a? and R¿b? are naphthyl, anthracyl, phenanthryl or a heterocyclic radical each of which is unsubstituted or substituted; R¿1?, R¿2?, R¿3?, R¿4?, R¿5?, R¿6?, R¿7?, R¿8?, R¿9? and R¿10? are, for example, each independently of the others hydrogen; A-Y; C¿1?-C¿12?alkyl, halogen or phenyl; R¿11? and R¿12? are, for example, C¿1?-C¿12? alkyl; X is -OR¿20? or -N(R¿21?)(R¿22?); R¿20? is, for example, hydrogen or C1-C4alkyl; R21 and R22 are, for example, hydrogen or C¿1?-C¿12? alkyl; X¿1? is, for example, -O-; Y is, for example, a single bond or -O-; Y¿1? is, for example, a single bond; and A is, for example, C¿6?-C¿30?alkyl.
(FR)Procédé de fabrication de revêtements avec des surfaces durables anti-rayures qui comprennent en tant que photo-initiateur (B) dans une formulation photodurcissable au moins un photo-initiateur actif en surface, concentré à la surface de la formulation, correspondant à la formule (Ia) ou (Ib), dans laquelle R¿a? est un radical ayant la formule (IIa), R¿b? est un radical ayant la formule (IIb), ou R¿a? et R¿b? sont naphthyle, anthracyle, phenanthryle ou un radical hétérocyclique, et dont chacun est non substitué ou substitué; R¿1?, R¿2?, R¿3?, R¿4?, R¿5?, R¿6?, R¿7?, R¿8?, R¿9? et R¿10? sont, par exemple, chacun indépendamment des autres hydrogène; A-Y; alkyle C¿1?-C¿12?, halogène ou phényle; R¿11? et R¿12? sont, par exemple, alkyle C¿1?-C¿12?; X est -OR¿20? ou -N(R¿21?)(R¿22?); R¿20? est, par exemple, hydrogène ou alkyle C1-C4; R21 et R22 sont, par exemple, hydrogène ou alkyle C¿1?-C¿12?; X¿1? est, par exemple, -O-; Y est, par exemple, une liaison unique ou -O-; ¿1? est, par exemple, une liaison unique; et A est, par exemple, alkyle C¿6?-C¿30?.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)