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1. (WO2002048104) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DERIVE D'INDOLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/048104    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/010969
Date de publication : 20.06.2002 Date de dépôt international : 14.12.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.06.2002    
CIB :
C07D 209/08 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0054 (JP) (Tous Sauf US).
SHIRAI, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UTSUNOMIYA, Tomohisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Norio [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIRAI, Yasuo; (JP).
UTSUNOMIYA, Tomohisa; (JP).
TANAKA, Norio; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-380013 14.12.2000 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING INDOLE DERIVATIVE
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DERIVE D'INDOLE
Abrégé : front page image
(EN)A method for producing a novel indole derivative, characterized in that it comprises cyclizing a ß-nitrostyrene derivative having no substituent at least one ortho position under a reducing condition. The cyclization is preferably carried out by the use of a metal catalyst containing a Group VIII atom of the periodic table in a carbon monoxide containing atmosphere.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un nouveau dérivé d'indole. Se procédé se caractérise en ce qu'il consiste à cycliser un dérivé de $g(b)-nitrostyrène dépourvu de substituant en au moins une position ortho dans une condition de réduction. La cyclisation s'opère de préférence au moyen d'un catalyseur de métal contenant un atome du groupe VIII de la table périodique dans une atmosphère contenant du monoxyde de carbone.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)