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1. (WO2002047130) METHODE DE PRODUCTION DE BISPHENOL A
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/047130    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/010257
Date de publication : 13.06.2002 Date de dépôt international : 22.11.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    15.05.2002    
CIB :
G01M 11/02 (2006.01), G02B 21/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
NAGAYAMA, Tadashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAGAYAMA, Tadashi; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-370871 06.12.2000 JP
Titre (EN) OBSERVATION DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRO DEVICE
(FR) METHODE DE PRODUCTION DE BISPHENOL A
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing an observation device by which the residual aberration including a high-order aberration component of the wave front aberration can be corrected satisfactorily. A method for manufacturing an observation device for observing the image of the surface (WH) to be observed formed through an image-forming a focusing optical system (7, 6, 10, 11, 12 (14)). The method comprises an aberration measuring step of measuring the residual aberration left in the image-forming optical system, and a positioning step of disposing a correction plate (17) at least one of the surfaces of which is aspheric in a predetermined position in the optical path of the image-forming optical system.
(FR)L'invention concerne une méthode de production d'un bisphénol A présentant une teinte stable, même à des températures élevées, sans colorer. La méthode consiste à mettre en réaction un phénol avec de l'acétone, à l'aide d'une résine d'échange ionique sous forme acide en tant que catalyseur. La méthode consiste ensuite à distiller en vase clos le mélange réactionnel résultant; et à récupérer le bisphénol A de la fraction de fond déchargée de la colonne de distillation. La résine d'échange ionique sous forme acide chargée dans le réacteur est purifiée avec le phénol avant réaction, et le phénol utilisé pour la purification est récupéré par distillation de la fraction de tête déchargée de la colonne de distillation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)