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1. (WO2002046851) PROCEDE ET DISPOSITIF DE SURVEILLANCE DE SYSTEME ET/OU DE PROCESSUS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/046851    N° de la demande internationale :    PCT/EP2001/014053
Date de publication : 13.06.2002 Date de dépôt international : 01.12.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.07.2002    
CIB :
G05B 23/02 (2006.01)
Déposants : ENDRESS + HAUSER FLOWTEC AG [CH/CH]; Kägenstrasse 7, CH-4153 Reinach (CH) (Tous Sauf US).
BUDMIGER, Thomas [CH/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : BUDMIGER, Thomas; (CH)
Mandataire : ANDRES, Angelika; c/o Endress + Hauser Deutschland Holding GmbH, PatServe, Colmarer Strasse 6, 79576 Weil am Rhein (DE)
Données relatives à la priorité :
100 60 706.3 07.12.2000 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND EINE VORRICHTUNG ZUR SYSTEM- UND/ODER PROZESSÜBERWACHUNG
(EN) METHOD AND DEVICE FOR SYSTEM AND/OR PROCESS MONITORING
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE SURVEILLANCE DE SYSTEME ET/OU DE PROCESSUS
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zur System- und/oder Prozeßüberwachung im Zusammenhang mit einem Meßgerät, das zumindest eine Prozeßgröße eines Mediums (12) bestimmt/überwacht. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung vorzuschlagen, die es ermöglichen, Aussagen hinsichtlich der gegenwärtigen und zukünftigen Funktionalität eines Meßgeräts bzw. einzelner Komponenten des Meßgeräts (1) bereitzustellen. Die Aufgabe wird hinsichtlic h des Verfahrens dadurch gelöst, daß die Temperaturwerte (T) des Mediums (12) direkt oder indirekt ermittelt werden und daß anhand der ermittelten Temperaturwerte (T) des Mediums (3) bzw. anhand der Ableitungen der ermittelten Temperaturwerte des Mediums (3) eine Trendanalyse hinsichtlich der thermischen Belastung des Meßgerätes (1) bzw. der thermischen Belastung einzelner Komponenten des Meßgerätes (1) durchgeführt wird.
(EN)The invention relates to a method and a device for system and/or process monitoring linked to a measuring device, which determines/monitors at least one process variable of a medium (12). The aim of the invention is to disclose a method and a device, which provide information relating to the current and future functional capacity of a measuring device or individual components of said measuring device (1). To achieve this, according to the method, the temperature values (T) of the medium (12) are directly or indirectly determined and a trend analysis, which relates to the thermal stress of the measuring device (1) or to the thermal stress of individual components of said measuring device (1), is carried out, based on the temperature values (T) of the medium (3) thus determined, or based on derivations of the determined temperature values (3) of the medium.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif de surveillance de système et/ou de processus en association avec un appareil de mesure, qui détermine/surveille au moins une grandeur physique relative à un milieu (12). L'objectif de l'invention est de réaliser un procédé et un dispositif qui permettent de fournir des renseignements sur la fonctionnalité présente et future d'un appareil de mesure et de certains composants de cet appareil de mesure (1). Cet objectif, quant au procédé, est atteint par le fait que les valeurs thermiques (T) du milieu (12) sont déterminées directement ou indirectement et que, sur la base des valeurs thermiques (T) du milieu (12) ainsi obtenues et des dérivations reposant sur ces valeurs thermiques (T) du milieu (12), il est possible de réaliser une analyse tendancielle concernant la charge thermique dudit appareil de mesure (1) et de certains composants de cet appareil de mesure (1).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)