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1. (WO2002046501) PROCEDE DE PRODUCTION DE SURFACES DE CONTACTS ELECTRIQUES COMPORTANT DES MICROPORES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/046501    N° de la demande internationale :    PCT/IL2001/001135
Date de publication : 13.06.2002 Date de dépôt international : 07.12.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.07.2002    
CIB :
B23K 26/38 (2006.01)
Déposants : SURFACE TECHNOLOGIES LTD. [IL/IL]; P.O. Box 212, 36601 Nesher (IL) (Tous Sauf US).
ETSION, Izhak [IL/IL]; (IL) (US Seulement)
Inventeurs : ETSION, Izhak; (IL)
Mandataire : FRIEDMAN, Mark, M.; c/o Discovery Dispatch, 90003 Florin Way, Upper Marlboro, MD 20772 (US)
Données relatives à la priorité :
60/251,842 08.12.2000 US
Titre (EN) METHOD OF MANUFACTURING ELECTRICAL CONTACT SURFACE HAVING MICROPORES
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE SURFACES DE CONTACTS ELECTRIQUES COMPORTANT DES MICROPORES
Abrégé : front page image
(EN)A method of texturing a surface of an electrical contact by providing a first surface region (111) for conducting electrical current; providing a second surface region (113) for conducing electrical current, the second surface (113) region substantially opposing and operatively connected to the first surface region (111), and utilizing beam radiation to form a plurality of micropores on at least one of the surface regions.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de texturer une surface de contact électrique comprenant les étapes suivantes : (a) préparer une première zone superficielle pour conduire le courant électrique ; (b) préparer une seconde zone superficielle pour conduire le courant électrique, ladite seconde zone superficielle étant sensiblement opposée et en connexion opérante à/avec la première zone superficielle, et (c) utiliser un faisceau de rayonnements pour former une pluralité de micropores sur au moins une des zones superficielles.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)