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1. (WO2002045561) POMME DE DOUCHE A ETANCHEITE DE SURFACE POUR REACTEUR DE DEPOT EN PHASE VAPEUR A DEFLECTEURS DE FLUX INTEGRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/045561    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/043554
Date de publication : 13.06.2002 Date de dépôt international : 20.11.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.06.2002    
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Déposants : APPLIED EPI, INC. [US/US]; 4900 Constellation Drive St. Paul, MN 55127 (US)
Inventeurs : DOPPELHAMMER, Robert; (US)
Mandataire : BRUESS, Steven C.; Merchant & Gould, P.C. P.O. Box 2903 Mineapolis, MN 55402-0903 (US)
Données relatives à la priorité :
60/252,141 20.11.2000 US
Titre (EN) SURFACE SEALING SHOWERHEAD FOR VAPOR DEPOSITION REACTOR HAVING INTEGRATED FLOW DIVERTERS
(FR) POMME DE DOUCHE A ETANCHEITE DE SURFACE POUR REACTEUR DE DEPOT EN PHASE VAPEUR A DEFLECTEURS DE FLUX INTEGRES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an improved structure of the 'showerhead' used to introduce gaseous source material into a vapor deposition reactor such as a metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) reactor. The showerhead (20) includes inlet seal assemblies (22) that connect the inlet lines (25) to the showerhead through the use of opposing planar seal faces (26, 28) so as to simplify the process of connecting and disconnecting the inlet lines to the showerhead. In addition, the showerhead includes a gas dispersion assembly (40) on the inner face of the showerhead that optimises the flow of gaseous material into the reaction chamber. The gas dispersion assembly includes a plurality of webbed disks (41-43) that define discrete dispersion chambers (49a, 49b, 49c). The webbed disks include integrally-formed flow diverters (54) that direct the flow of gas so as to create controlled, uniform flow of material into the reaction chamber.
(FR)La présente invention concerne une structure améliorée de la 'pomme de douche' utilisée pour introduire une matière source gazeuse dans un réacteur de dépôt en phase vapeur tel qu'un réacteur de dépôt en phase vapeur par procédé chimique organométallique (MOCVD). La pomme de douche comprend des ensembles joint d'entrée reliant les conduits d'entrée à la pomme de douche par l'utilisation de surfaces de joint planes opposées de manière à simplifier le processus de raccordement et de déconnexion des conduits d'entrée dans la pomme de douche. De plus, la pomme de douche comprend un ensemble de dispersion de gaz sur la face intérieure de ladite pomme de douche optimisant l'écoulement de matière gazeuse dans la chambre de réaction. L'ensemble de dispersion de gaz comprend une pluralité de disques nervurés définissant des chambres de dispersion distinctes. Les disques nervurés comprennent des déflecteurs de flux solidaires orientant le flux de gaz dans les chambres de dispersion de manière à créer un écoulement de matière régulé uniforme dans la chambre de réaction.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)