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1. (WO2002044811) MELANGES DE POLYMERES ET LEUR UTILISATION DANS DES COMPOSITIONS DE PHOTORESINE DESTINEES A LA MICROLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/044811    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/043398
Date de publication : 06.06.2002 Date de dépôt international : 21.11.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.06.2002    
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street, Wilmington, DE 19898 (US) (Tous Sauf US).
BERGER, Larry, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
SCHADT, Frank, L., III [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BERGER, Larry, L.; (US).
SCHADT, Frank, L., III; (US)
Mandataire : SINNOTT, Jessica, M.; E. I. du Pont de Nemours and Company, Legal Patent Records Center, 4417 Lancaster Pike, Wilmington, DE 19805 (US)
Données relatives à la priorité :
60/253,913 29.11.2000 US
Titre (EN) POLYMERS BLENDS AND THEIR USE IN PHOTORESIST COMPOSITIONS FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) MELANGES DE POLYMERES ET LEUR UTILISATION DANS DES COMPOSITIONS DE PHOTORESINE DESTINEES A LA MICROLITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)A photoresist composition having (A) at least two polymers selected from the group consisting of: (a) a fluorine-containing copolymer comprising a repeat unit derived from at least one ethylenically unsaturated compound characterized in that at least one ethylenically unsaturated compound is polycyclic; (b) a branched polymer containing protected acid groups, said polymer comprising one or more branch segment(s) chemically linked along a linear backbone segment; (c) fluoropolymers having at least one fluoroalcohol group having the structure:-C(Rf)(Rf')OH wherein Rf and Rf' are the same or different fluoroalkyl groups of from 1 to about 10 carbon atoms or taken together are (CF2)n wherein n is 2 to 10;(d) amorphous vinyl homopolymers of perfluoro(2,2-dimethyl-1,3-dioxole) or CX2=CY2 where X = F or CF3 and Y = H or amorphous vinyl copolymers of perfluoro(2,2-dimethyl-1,3-dioxole) and CX2 = CY2; and (e) nitrile/fluoroalcohol-containing polymers prepared from substituted or unsubstituted vinyl ethers; and (B) at least one photoactive component.
(FR)L'invention concerne une composition de photorésine ayant: (A) au moins deux polymères sélectionnés dans le groupe constitué par: a) un copolymère fluoré qui comprend une unité récurrente issue d'au moins un composé éthyléniquement insaturé, et se caractérise en ce qu'au moins un composé éthyléniquement insaturé est polycyclique; b) un polymère ramifié contenant des groupes acides protégés, ledit polymère comprenant un ou plusieurs segments de ramification liés chimiquement le long d'un segment de squelette linéaire; c) des polymères fluorés présentant au moins un groupe alcool fluoré de la structure -C(Rf)(Rf')OH, dans laquelle Rf et Rf' sont des groupes fluoroalkyle identiques ou différents possédant entre environ 1 et 10 atomes de carbone, ou forment ensemble la structure (CF2)n dans laquelle n est compris entre 2 et 10; d) des homopolymères vinyliques amorphes de perfluoro(2,2-diméthyl-1,3-dioxole) ou CX2=CY2 (X = F ou CF3 et Y = H), ou des copolymères vinyliques amorphes de perfluoro(2,2-diméthyl-1,3-dioxole) et CX2 = CY2; et e) des polymères à base de nitrile et d'alcool fluoré préparés à partir d'éthers vinyliques substitués ou insubstitués; et B) au moins un constituant photoactif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)